20噸單級反滲透設(shè)備廠家

20噸單級反滲透設(shè)備廠家，推薦旭升。旭升擁有專業(yè)水處理技術(shù)研發(fā)團隊設(shè)計開發(fā)客戶真正需求的水處理設(shè)備，按照客戶用水量，用水水質(zhì)要求設(shè)計更加合理、科學(xué)的解決方案和設(shè)備架構(gòu)

設(shè)備參數(shù)：
　　名稱：超純水設(shè)備
　　型號：XS-10T
　　進水口徑：15-100（mm）
　　產(chǎn)水量：0.25-50t/h
　　工作壓力：1.5MPa（psi）
　　概述：

　　選擇去離子水設(shè)備的必要性：  
　　去離子水在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，去離子水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中，去離子水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。
　　在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，去離子水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。