半導體用超純水設備

半導體用超純水設備

一、超純水設備應用廣泛，工業(yè)制造領域只要涉及到水的大部分需要進行過濾凈化處理，一般工業(yè)用水要求是去離子水，也是除鹽水。工業(yè)純水設備滿足這些使用需求，而且也是經濟實惠的純水制取方法。

 二、系統(tǒng)組成

     預處理：一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統(tǒng)的設備配置應該根據原水的具體情況而定。

      反滲透：主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。

      后處理：是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。

 三、反滲透裝置常見故障分析如下：

一、在初始設計時選擇高壓泵的揚程偏低，在溫度或進水水質發(fā)生變化時引起產水量達不到設計要求；

二、膜元件被氧化引起水通量增加及產水水質下降；

三、鹽水密封圈倒置引起實際回收率過高而產生結垢及水質下降現象；

四、鹽水密封圈破損引起實際回收率過高而產生結垢即水質下降現象；

五、O型圈破損引起產水水質下降