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適用于半導(dǎo)體過程控制在線質(zhì)譜儀 Aston™

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更新時(shí)間：2022-03-09 14:56:46瀏覽次數(shù)：624次

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  氦質(zhì)譜檢漏儀
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  真空閥門
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產(chǎn)地	進(jìn)口	產(chǎn)品新舊	全新

上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 作為一個(gè)*的平臺, Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具

詳細(xì)介紹

Ato<em></em>narp 適用于半導(dǎo)體過程控制在線質(zhì)譜儀 Aston™

Atonarp 適用于半導(dǎo)體過程控制在線質(zhì)譜儀 Aston™
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™, 通過使用分子傳感技術(shù), 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷, 為半導(dǎo)體過程控制提供解決方案, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝 Aston, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!

Aston™ 特性
實(shí)時(shí)過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺, 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具*集成
Aston™ 作為一個(gè)*的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.

Atonarp Aston™ 技術(shù)參數(shù)

類型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型號	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
質(zhì)量分離	四級桿
真空系統(tǒng)	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵
檢測器	FC /SEM
質(zhì)量范圍	2-285		2-220		2-285
分辨率	0.8±0.2
檢測限	0.1 PPM
工作溫度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)		400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Atonarp Aston™ 應(yīng)用: 半導(dǎo)體工藝過程控制和優(yōu)化的重大發(fā)展, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新設(shè)計(jì)堅(jiān)固耐用的緊湊型在線質(zhì)譜儀, 適用于半導(dǎo)體制造和工業(yè)過程控制應(yīng)用中氣體監(jiān)測和控制, 高定量精度和實(shí)時(shí)性與生產(chǎn)穩(wěn)健性和可靠性相結(jié)合, 例如半導(dǎo)體 dry pump 尾氣偵測分析, 實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識別跟蹤分子
Aston™ 半導(dǎo)體在線質(zhì)譜儀應(yīng)用