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伯東企業(yè)（上海）有限公司
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更新時(shí)間：2021-12-28 14:56:12瀏覽次數(shù)：303次
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上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號(hào)的離子源
KRI 考夫曼離子源 KDC 10
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號(hào)的離子源. 適用于集成在小型的真空設(shè)備中, 例如預(yù)清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時(shí)離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設(shè)計(jì), 低成本等優(yōu)點(diǎn)廣泛應(yīng)用在顯微鏡領(lǐng)域, 標(biāo)準(zhǔn)配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 10mA.
KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | KDC 10 |
供電 | DC magnetic confinement |
- 陰極燈絲 | 1 |
- 陽(yáng)極電壓 | 0-100V DC |
- 柵極直徑 | 1cm |
中和器 | 燈絲 |
電源控制 | KSC 1202 |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
- 架構(gòu) | 移動(dòng)或快速法蘭 |
- 高度 | 4.5' |
- 直徑 | 1.52' |
- 離子束 | 集中 |
-加工材料 | 金屬 |
-工藝氣體 | 惰性 |
-安裝距離 | 2-12" |
- 自動(dòng)控制 | 控制4種氣體 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應(yīng)用領(lǐng)域
離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
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上海伯東: 羅先生 中國(guó)臺(tái)灣伯東: 王小姐
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