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KRi 射頻離子源 RFICP 220伯東代理

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產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地上海市

聯(lián)系方式:葉南晶查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2021-12-28 14:24:48瀏覽次數(shù):239次

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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品新舊 全新

標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

詳細(xì)介紹

KRi 射頻離子源 RFICP 220

KRi 射頻離子源 RFICP 220
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 佳的離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):

型號

RFICP 220

Discharge 陽極

RF 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000


KRI 射頻離子源 RFICP 220 應(yīng)用領(lǐng)域:
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生                                  中國臺灣伯東: 王小姐


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