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光催化氧化技術(shù)的情況簡要

2009-5-12 

光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項氧化技術(shù)。所謂光催化反應(yīng),就是在光的作用下進行的化學反應(yīng)。光化學反應(yīng)需要分子吸收特定波長的電磁輻射,受激產(chǎn)生分子激發(fā)態(tài),然后會發(fā)生化學反應(yīng)生成新的物質(zhì),或者變成引發(fā)熱反應(yīng)的中間化學產(chǎn)物。光化學反應(yīng)的活化能來源于光子的能量,在太陽能的利用中光電轉(zhuǎn)化以及光化學轉(zhuǎn)化一直是十分活躍的研究領(lǐng)域。
    光降解通常是指有機物在光的作用下,逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物zui終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后進一步發(fā)生的化學反應(yīng)。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài),再誘導一系列有機污染的反應(yīng)。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的有機污染物更為重要。
   利用光化學反應(yīng)降解污染物的途徑,包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和*作為氧化劑,在紫外光的照射下使污染物氧化分解;后者又稱光催化氧化,一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì),通過photo-Fenton反應(yīng)產(chǎn)生·HO使污染物得到降解,非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料,同時結(jié)合一定量的光輻射,使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對,吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用,產(chǎn)生·HO等氧化性*的自由基,再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。



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