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伯東企業(yè)（上海）有限公司
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上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3.7 高= 3放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, ......
伯東 KRI 霍爾離子源 eH 400 特性：
1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
2.寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)
4.高效的等離子轉換和穩(wěn)定的功率控制
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