JOBIN YVON（法國(guó)JY）輝光光譜儀

用途：
JY 輝光光譜儀- GD-PROFILER能夠?qū)腆w樣品的（包括導(dǎo)電性及非導(dǎo)電性材料）進(jìn)行表面逐層分析，界面分析及樣品整體成分分析，而且具有這些分析所需的高靈敏度和高的深度分辨率。
• 化學(xué)熱處理 – 碳化、氮化、碳氮化等 。
• 鍍鋅板（熱鍍鋅、鋅鐵合金化、鋅鋁合金化等）。
• 鍍錫板、磷化、鉻化等。
• PVD / CVD 涂層等。
• 鋁、鉛復(fù)層
• 薄的有機(jī)膜涂層
• 彩涂板
• 半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、玻璃、陶磁

JOBIN YVON（法國(guó)JY）輝光光譜儀技術(shù)參數(shù)：
GD-Profiler 系列包括2 種型號(hào)，全部裝備RF 射頻光源，每種型號(hào)均有多種選配件，用于滿足不同用戶的測(cè)試要求和預(yù)算。GD-Profiler2 可測(cè)試多種樣品，有著*的性價(jià)比，GD-Profiler HR 是目前商品化的輝光光譜儀中性能高的，二者均可分析導(dǎo)體和非導(dǎo)體的固體樣品。廣泛應(yīng)用于傳統(tǒng)的鍍鋅/錫板（彩涂板）、汽車工業(yè)、航空航天、熱處理（滲碳/滲氮）、陶瓷工業(yè)、玻璃工業(yè)、表面污染以及當(dāng)前在歐美和日本科研與工業(yè)對(duì)半導(dǎo)體電子（液晶面板/硬盤(pán)/芯片）、新能源（鋰電池/LED/光伏）研究與分析應(yīng)用可以替代原來(lái)只能依賴的SIMS(二次離子質(zhì)譜)或XPS（光電子能譜儀）。與其相比之下GDS 做到更高效、更快速、更經(jīng)濟(jì)等多方面優(yōu)勢(shì)，受到越來(lái)越多的科研工作者的認(rèn)可與青睞，刮起一股從西方到東方席卷的輝光新風(fēng)尚。
*RF 射頻發(fā)生器- 標(biāo)準(zhǔn)配置，符合E 級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，穩(wěn)定性高，濺射束斑極為平坦，等離子體穩(wěn)定時(shí)間極短，表面信息無(wú)任何失真。
*脈沖工作模式既可分析常見(jiàn)的涂、鍍層和薄膜，也可以很好的分析熱傳導(dǎo)性能差和熱易碎的涂、鍍層和薄膜。
*多道(同時(shí))型光學(xué)系統(tǒng)可全譜覆蓋，光譜范圍：110nm 至800nm，包含遠(yuǎn)紫外，可分析C, H, O, N, Cl
*Jobin Yvon 的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器有大光通量，因而有高的光效率和靈敏度
*HDD® 檢測(cè)器可進(jìn)行快速而高靈敏的檢測(cè)，動(dòng)態(tài)范圍達(dá)到10 個(gè)量級(jí)
*寬大的樣品室方便各類樣品的加載
*功能*的QUANTUMT XP 軟件可以多種格式靈活方便的輸出檢測(cè)報(bào)告
*激光指點(diǎn)器(CenterLite laser pointer)可用于精確定位
*Jobin Yvon *的單色儀(選配件)可*的提高儀器的靈活性，可同時(shí)測(cè)定N+1 個(gè)元素

主要特點(diǎn)：
Jobin Yvon 所生產(chǎn)的輝光放電發(fā)射光譜儀(RF-GD-OES)采用射頻(RF)光源，可以進(jìn)行導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料的基體、表面、逐層分析，是一種快速的、操作簡(jiǎn)單的分析手段。
GDS 是一種理想的表面、逐層分析工具，分析深度高達(dá)幾百微米，深度分辨率可精確至原子層。Jobin Yvon 所生產(chǎn)的輝光放電光譜儀(GD)全部采用技術(shù)的HDD(High Dynamic range Detection)檢測(cè)器，可以實(shí)時(shí)、自動(dòng)優(yōu)化工作參數(shù)，在靈敏度和動(dòng)態(tài)范圍不受任何損失的情況下，一個(gè)分析通道就能*同一元素在不同層面內(nèi)微量和主量的測(cè)定。
GD-Profiler2 可以快速、同時(shí)分析七十余種元素，包括氮、氧、氫和氯元素，是一種用于薄膜(包括涂層、鍍層、滲層等)成份和工藝分析的理想工具。
GD-Profiler2 采用脈沖工作模式的RF 光源，可以有效地分析熱傳導(dǎo)性能差和熱敏感的樣品。應(yīng)用領(lǐng)域包括腐蝕與防腐、PVD、CVD、過(guò)程控制，也可用于日常的金屬和合金的產(chǎn)品質(zhì)量控制與檢測(cè)。