德國20場發(fā)射電子顯微鏡是一款擁有第三代GEMINI鏡筒的高性能場發(fā)射電子顯微鏡，它有的擺動緩沖系統(tǒng)，并結(jié)合了5軸驅(qū)動載物臺，通過不斷變換電壓可以獲得很高的分辨率。對于使用者來說，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系統(tǒng)功能*，可以在性對不穩(wěn)定的環(huán)境下完成檢測，*分析型的場發(fā)射掃描電鏡探針電流可達到20nA，適用范圍如材料領(lǐng)域、半導(dǎo)體技術(shù)、生命科學(xué)和納米技術(shù)領(lǐng)域等。

德國20場發(fā)射電子顯微鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設(shè)計，具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能。創(chuàng)新的InLens設(shè)計是目前世界上真正的內(nèi)置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有靈敏度和高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業(yè)界高等級的分辨率和圖像質(zhì)量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內(nèi)置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡創(chuàng)造性的采用電磁、靜電復(fù)合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率
產(chǎn)品應(yīng)用:
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
 

德國20場發(fā)射電子顯微鏡技術(shù)參數(shù)
分 辨 率：   0.8nm@ 15KV   
                       1.6nm @ 1KV          
                       2.0nm @ 30KV(VP mode)
放大倍數(shù)：  12 - 1,000,000x
加速電壓：   0.02 - 30 KV
探針電流：   4 pA - 20 nA (12pA - 100 nA 可選)
樣 品 室：   330 mm (φ) x 270 mm (h)
樣 品 臺：   5軸優(yōu)中心全自動
                       X = 130mm
                       Y = 130 mm
                       Z = 50mm
                       T = -3 to 70°
                       R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
系統(tǒng)控制：  基于Windows XP 的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標、鍵盤、控制面板控制