詳細(xì)介紹
專用掃描透射顯微鏡HD-2700,配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀,顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能,更適合高級納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差,使其與標(biāo)準(zhǔn)型號顯微鏡相比,分辨率提高了1.5倍,同時,探針電流提高了10倍。
最近,該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發(fā)射電子槍,進一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時,該型號系列還增加了一款不帶球差校正的主機配置,可以以后加配球差校正進行升級。
特點 |
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136nm,F(xiàn)FT圖像0.105nm(高分辨率鏡頭(*))
HAADF-STEM圖像0.144nm(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭)
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204nm(w/o球差校正儀)
高速,高靈敏度能譜分析:探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時
低濃度元素檢測
操作簡化
自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現(xiàn)無縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
配有各種選購件可執(zhí)行各種評估和分析操作
同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布(*) 和DF/EELS面分布(*)圖像。
低劑量功能(*)(有效降低樣品的損傷和污染)
高精度放大校準(zhǔn)和測量(*)
實時衍射單元(*)(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿(360度旋轉(zhuǎn))(*),具有自動傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時元素面分布系統(tǒng)(*)(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)
(*) 選購件
技術(shù)指標(biāo)
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡
項目 | 描述 | |
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204nm(當(dāng)放大倍數(shù)為4,000,000時) |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時)(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭) | |
| 保證 0.136nm(HAADF圖像) 保證0.105 nm(通過FFT)(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時)(高分辨率鏡頭(*)) | ||
| 放大倍數(shù) | 100倍 至 10,000,000倍 | |
| 加速電壓 | 200 kV, 120 kV (*) | |
| 成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡:相襯圖像(TE圖像) 暗場掃描透射電子顯微鏡:原子序數(shù)襯度圖像(Z襯度圖像) 二次電子圖像(SE圖像) 電子衍射(*) 特征X射線分析和面分布(能譜分析)(*) 電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)(*) | |
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子源 | 肖特基發(fā)射電子源 |
| 冷場致發(fā)射器(*) | ||
| 照明透鏡系統(tǒng) | 2-段聚光鏡鏡頭 | |
| 球差校正儀(*) | 六極鏡頭設(shè)計 | |
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應(yīng)線圈 | |
| 原子序數(shù)襯度收集角控制 | 投影鏡設(shè)計 | |
| 電磁圖像位移 | ±1 μm | |
| 試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿:±30°(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭(*)) | |
| 真空系統(tǒng) | 3個離子泵,1個TMP | |
| 極限真空 | 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室) | |
| 圖像顯示 | 個人電腦/操作系統(tǒng) | PC/AT兼容, Windows® XP |
| 監(jiān)視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | |
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 | |
| 掃描速度 | 快掃,慢掃(0.5至320秒/幀) | |
| 自動數(shù)據(jù)顯示 | 記錄序號,加速電壓,下標(biāo)尺,日期,時間 | |
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