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詳細(xì)介紹
簡介
日立高新推出的超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000專為電子束敏感樣品和需要300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)。通過改進(jìn)的電子槍、電子光學(xué)設(shè)計(jì)以及增強(qiáng)的真空性能，該設(shè)備實(shí)現(xiàn)了的低加速電壓成像效果，并配備了Super E x B能量過濾技術(shù)，以更高效、靈活地收集多種信號(hào)，從而提供的電子束穩(wěn)定性和高效率的截面觀察能力。
日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。
新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV（SE）
0.7nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。
采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。
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