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詳細(xì)介紹
簡介
日立紫外清洗設(shè)備采用紫外光和臭氧對樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行溫和清理，適用于樣品前處理，尤其適合透射電鏡樣品桿。提供1至30分鐘可調(diào)的兩種清洗模式，采用無油真空系統(tǒng)在3分鐘內(nèi)達(dá)到所需真空度，對樣品損傷小。樣品桿有3孔和5孔可選，有效清理區(qū)域直徑為3毫米。
日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備，主要針對樣品表面的有機(jī)污染物，相比等離子清洗更加溫和，對樣品損傷小。
清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲存
清洗時間范圍為1min-30min（步幅1min）
真空系統(tǒng):
無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）
3min內(nèi)達(dá)到所需真空度
真空范圍為100-500torr(100步)
樣品桿:
3孔或5孔可選
適合于各型號透射電鏡樣品桿
有效清理區(qū)域直徑3mm
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