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太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司

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GMD2000高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)
參考價(jià): ¥ 100000
訂貨量: 1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • GMD2000 產(chǎn)品型號(hào)
  • SID/希德 品牌
  • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
  • 蘇州市 所在地

訪問(wèn)次數(shù):520更新時(shí)間:2026-09-29 14:05:17

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
變速方式 變頻變速 產(chǎn)地 進(jìn)口
產(chǎn)品大小 中型 產(chǎn)品新舊 全新
分散機(jī)類型 實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),高速分散機(jī),乳化分散機(jī) 分散輪直徑 55mm
分散盤型式 平盤鋸齒式 結(jié)構(gòu)類型 立式
每次處理量 0-300 升降形式 其他
速度范圍 其他 速度類別 無(wú)級(jí)變速
物料類型 液-液,固-液 自動(dòng)化程度 全自動(dòng)
高新精細(xì)納米研磨分散機(jī),是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。
產(chǎn)品介紹

高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)

隨著產(chǎn)業(yè)化升級(jí)及高新技術(shù)功能材料市場(chǎng)的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級(jí)潤(rùn)滑油、高級(jí)鞣革提堿級(jí)、食品級(jí)、醫(yī)藥級(jí)、硅鋼級(jí)、高級(jí)電磁級(jí)、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。


SID德國(guó)納米醫(yī)用級(jí)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過(guò)14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的chao強(qiáng)剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬(wàn)次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開(kāi)團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行che底的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一,對(duì)于后期做應(yīng)用性能就越好!

高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)


影響納米材料分散要素:

1、分散介質(zhì)

(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

(3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。

3、分散設(shè)備

SID機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開(kāi)發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)


納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。

當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì),經(jīng)過(guò)高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù),最終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。






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