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| 產(chǎn)地 | 進口 | 產(chǎn)品大小 | 中型 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品新舊 | 全新 | 分類 | 立式膠體磨 |
| 結構類型 | 立式 | 應用領域 | 制藥,食品,化工 |
| 自動化程度 | 全自動 |
硼氫hua鈉立式膠體磨
硼氫hua鈉常溫常壓下穩(wěn)定。硼氫hua鈉堿性溶液呈棕黃色。常用的還原劑之一。對空氣中的水氣和氧較穩(wěn)定,操作處理容易。適用于工業(yè)規(guī)模, 因為溶解性的問題,通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下,硼氫hua鈉無法還原酯,酰胺,羧酸及腈類化合物,但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外,可以將酯還原。與硼氫hua鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼結膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對人體有害。應干燥保存,使用時應特別小心,操作時在通風櫥中進行。應貯存在陰涼、干燥的庫房中。防潮,防震,勿與無機酸共貯混運,遠離熱源和火種及易燃物品。

硼氫hua鈉可以在非常溫和的條件下實現(xiàn)醛酮羰基的還原,生成一級醇、二級醇。還原步驟是先把底物溶于溶劑,一般是甲醇或者乙醇,然后用冰浴冷卻,將粉末加入混合物攪拌至反應wan全即可。它是一種中等強度的還原劑,所以在反應中表現(xiàn)出良好的化學選擇性,只還原活潑的醛酮羰基,而不與酯、酰胺作用,一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發(fā)生反應。少量硼氫hua鈉可以將腈還原成醛,過量則還原成胺
GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理,這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑,研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨GM2000的效果更加理想。
硼氫hua鈉立式膠體磨設備參數(shù)表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||








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