Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機(jī)是潔定Getinge個(gè)無菌處理系統(tǒng)中不可分割的一部分。潔定Getinge GEW系列清洗-干燥機(jī)專為滿足制藥工業(yè)需求而設(shè)計(jì)的。它以一個(gè)通用型的清洗-干燥機(jī)為基礎(chǔ)，通過配置的改變，可以滿足不同用戶的不同需求。

基礎(chǔ)模塊的清潔能力已遠(yuǎn)高于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求。清洗艙由316L不銹鋼制成，并經(jīng)過拋光和表面鈍化，不存水?？蚣懿牧蠟?04不銹鋼，配以316L不銹鋼面板，經(jīng)久耐腐蝕。

鉸接式維修門，開在機(jī)器的前面，便于保養(yǎng)維護(hù)。

清洗-干燥機(jī)的鋼化玻璃門為垂直滑動(dòng)式，全自動(dòng)門并配有安全系統(tǒng)，可保護(hù)操作者，操作簡便；使用符合人體工程學(xué)要求的推車和層架系統(tǒng)裝卸載。

設(shè)備的管道系統(tǒng)全部采用316L不銹鋼，按衛(wèi)生級(jí)標(biāo)準(zhǔn)裝配，全自動(dòng)滾機(jī)焊，所有浸潤面的最小坡度為2%。所有焊縫都經(jīng)光學(xué)孔徑儀檢查，檢查結(jié)果均記錄在案，以備核查。

Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機(jī)共有4個(gè)型號(hào)，每個(gè)型號(hào)又有不同配置可供選擇：

GEW P系列

適用于藥品生產(chǎn)企業(yè)。GEW P系列清洗干燥機(jī)與其他功能模塊構(gòu)成的系統(tǒng)，可滿足對(duì)零部件及組件的嚴(yán)格清潔需求。

GEW B系列

對(duì)生物工程制藥行業(yè)而言，因產(chǎn)品不同，其技術(shù)要求及清潔要求也不盡相同。GEW B系列清洗干燥機(jī)與GEW P系列采用同一平臺(tái)，但特別針對(duì)生物工程用戶的需求而進(jìn)行了優(yōu)化。

GEW L系列

主要適用于實(shí)驗(yàn)室，對(duì)玻璃器皿和用具實(shí)行高效的清潔。實(shí)驗(yàn)室的預(yù)算有限，但對(duì)設(shè)備的有效性和可重復(fù)性要求很高，GEW L系列清洗-干燥機(jī)很好地滿足了上述要求。

GEW C系列

越來越多的化妝品行業(yè)，也開始要求符合cGMP清潔。本系列清洗-干燥機(jī)可游刃有余地使用各種化學(xué)清潔劑，以*清理各種難治性污漬。

主要優(yōu)點(diǎn)

符合ASME BPE要求的處理系統(tǒng)及其組件

帶有垂直出口和監(jiān)測系統(tǒng)的衛(wèi)生級(jí)沃碦莎（Sanitary Waukesha）3A主循環(huán)泵

處理系統(tǒng)采用鍛接蓋米（GEMU）316L衛(wèi)生級(jí)隔膜閥，符合BPE及USPVI級(jí)的要求

所有與處理過程有關(guān)的接觸性元器件均采用316L不銹鋼，其中密封圈采用的硅膠均符合FDA 21CFRPart 177中有關(guān)GMP的規(guī)定

管道系統(tǒng)中的死角長度不超過4D，所有濕面的傾斜率不低于2%

腔體的轉(zhuǎn)角半徑為12mm，水環(huán)路拋光后光潔度RA<0.6</25μinch,并進(jìn)行鈍化

符合GAMP 4要求的完備的文件，包括焊接文件，鍛尖及Rockwell/Allen Bradley光學(xué)孔徑儀檢查結(jié)果

多種全自動(dòng)化操控系統(tǒng)備選--潔定PACS、Rockwell/Allen Bradley或者Siemens系統(tǒng)