專業(yè)生產(chǎn)光氧催化廢氣處理設(shè)備 uv光解廢氣處理設(shè)備 低溫等離子設(shè)備等各種vocs廢氣處理成套設(shè)備，： （V同號）

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        印刷廠廢氣處理設(shè)備技術(shù)介紹:低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。
        放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。
 

        去除污染物的基本過程：

過程一：高能電子的直接轟擊；

過程二：O原子或臭氧的氧化:O2+e→2O-；

過程三：OH自由基的氧化: H2O+e→OH+H  H2O+O→2OH  H+O2→OH+O；

過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)。

       等離子體化學(xué)反應(yīng)過程中，等離子體傳遞化學(xué)能量的反應(yīng)過程中能量的傳遞大致如下：

(1) 電場＋電子→高能電子

(2) 高能電子＋分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團) 活性基團

(3) 活性基團＋分子(原子)→生成物+熱

       經(jīng)過低溫等離子凈化后，廢氣尚含有部分小分子的物質(zhì)及臭氧，采用水洗工藝可以對污染物進行進一步處理，同時減少廢氣中臭氧含量，因此在此過程中，部分小分子有機物可進一步被羥基自由基氧化而予以去除。

 1.凈化效率高，性能穩(wěn)定；

 2.設(shè)備風(fēng)阻低≤300Pa,無需加人抽風(fēng)設(shè)備，投資低；

 3.運行成本低，耗電?。?/span>

 4.維護保養(yǎng)簡便，費用低，每使用90天為保養(yǎng)清洗期；

 5.安全可靠，設(shè)備采用敞開式排放形式，不設(shè)封閉高壓，高溫區(qū)；

 6.無需活性炭材料，不存在飽和脫附再生原料，無二次污染；

 7.使用壽命長，安裝簡便，操作過程實行全自動化；

 8.處理風(fēng)量5000-50000m3/h以上（可根據(jù)客戶實際要求尺寸訂做）。