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半導(dǎo)體集成電路封裝制作過(guò)程中會(huì)對(duì)晶片進(jìn)行切割和研磨，并且會(huì)運(yùn)用超純水進(jìn)行洗凈，這樣就發(fā)生了少量的切割研磨廢水。研磨廢水中含有高濃度以各種情況存在的細(xì)小的研磨含硅顆粒物、化學(xué)藥劑、超純水以及金屬離子物質(zhì)。該半導(dǎo)體研磨廢水的危害性是顯而易見(jiàn)的。

目前國(guó)內(nèi)大部分的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過(guò)濾方法處理的，出水到達(dá)污水綜合處理達(dá)標(biāo)排放的規(guī)范。有一些廠家盡管是采取膜法過(guò)濾處理廢水，但膜梗塞重大，清洗頻繁，少量使用化學(xué)藥劑，運(yùn)行成本昂揚(yáng)。半導(dǎo)體研磨廢水回用的處理方法有很多，由于半導(dǎo)體廢水處理技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展，使其工藝得到不斷改進(jìn)，工藝更加緊湊，處理效率得到提高。

研磨廢水回用處理方法：

(1)通過(guò)廢水搜集箱搜集硅片研磨發(fā)生的廢水；

(2)應(yīng)用水泵將廢水泵入多介質(zhì)過(guò)濾器進(jìn)行第一次過(guò)濾；

(3)將經(jīng)過(guò)第一次過(guò)濾的水送入保安過(guò)濾器進(jìn)行第二次過(guò)濾；

(4)將經(jīng)過(guò)第二次過(guò)濾的水送入膜過(guò)濾設(shè)備中進(jìn)行深度處理并回用。

萊特萊德在廢水回收領(lǐng)域深耕多年，根據(jù)研磨廢水的特性，合理制定處理工藝。預(yù)處理工藝搭配膜法分離系統(tǒng)，對(duì)研磨廢水的處理效果明顯，降低后續(xù)膜系統(tǒng)的清洗頻率，保證膜系統(tǒng)的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

萊特萊德廢水回用設(shè)備總回收率大于75%，廢水通過(guò)廢水回收系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了循環(huán)利用，因此可節(jié)約75%以上廢水排污費(fèi)用。廢水回收系統(tǒng)采用特殊膜分離新技術(shù)，工藝簡(jiǎn)單，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，處理效率高。廢水回用系統(tǒng)不僅能有效地節(jié)約有限的水資源，從而減輕對(duì)水資源的消耗，緩解日趨突出的用水緊張矛盾，而且能減少污水的排放，減輕對(duì)周圍水體的污染，改善人類居住環(huán)境。