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半導(dǎo)體是用水密集型產(chǎn)業(yè)。隨著芯片制程提高清洗步驟也相應(yīng)增多，用水量會(huì)呈指數(shù)級(jí)提升。典型的8寸晶圓的生產(chǎn)制造每片需要消耗約2-4噸水，大于28納米制程的12寸晶圓生產(chǎn)制造每片需要消耗約6-7噸水；當(dāng)制程達(dá)到14-28納米時(shí)每片需要消耗約18-20噸水。而晶圓廠的產(chǎn)能，通常是每月數(shù)萬(wàn)片甚至數(shù)十萬(wàn)片，耗水量可謂驚人。

據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)吸收了27%的工業(yè)用水，且一直存在水資源利用率不高的問(wèn)題。當(dāng)前許多企業(yè)超純水制造工藝從原水進(jìn)水到產(chǎn)品水出水的回收率一般都低于50%，很大地浪費(fèi)了水資源，這種情況不僅增加了半導(dǎo)體制造單位的運(yùn)行成本，還對(duì)水資源的安全性構(gòu)成了威脅。

在這種情況下，半導(dǎo)體企業(yè)使用、處理和管理水資源變得愈加重要。許多半導(dǎo)體企業(yè)積極尋求與擁有循環(huán)再生解決方案的超純水企業(yè)合作，進(jìn)行綠色水系統(tǒng)生產(chǎn)制造，以提升水資源利用率，降低運(yùn)行成本，保障水資源安全。

作為行業(yè)超純水生產(chǎn)工藝技術(shù)服務(wù)商，萊特萊德積極尋求水處理的技術(shù)突破，致力為半導(dǎo)體制造等行業(yè)客戶提供超純水方案及裝備。

萊特萊德超純水設(shè)備配備EDI裝置搭配拋光工藝處理，運(yùn)行穩(wěn)定，產(chǎn)水質(zhì)量高，可達(dá)到18MΩ·cm。EDI設(shè)備無(wú)需酸堿再生，可以節(jié)省一定的水處理耗材，且可以節(jié)約酸堿清洗用水，同時(shí)降低了污染。該超純水設(shè)備自動(dòng)化程度高，有效降低了勞動(dòng)力的投入，節(jié)約了用戶生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效益，整套設(shè)備性能高，使用期限長(zhǎng)。

超純水設(shè)備在出廠時(shí)都需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行調(diào)試，所以設(shè)備故障率低，日常維護(hù)、保養(yǎng)等操作非常簡(jiǎn)單。超純水設(shè)備的應(yīng)用將純水技術(shù)提升到一個(gè)高度，為各行業(yè)的水處理提供高效技術(shù)支撐。