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超純水，既將水中的導電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。

超純水，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。

超純水制作方法：

傳統(tǒng)超純水制取設(shè)備工藝流程：原水—多介質(zhì)過濾器—活性炭過濾器—一級除鹽—混床—超純水

膜法超純水制取設(shè)備工藝流程：原水—超濾—反滲透—EDI—超純水

在膜法工藝中，超濾，微濾替代澄清，石英砂過濾器，活性炭過濾器，除去水中的懸浮物膠體和有機物，降低濁度，SDI，COD等，可以實現(xiàn)反滲透裝置對污水回用的安全，高效運行，以反滲透替代離子交換器脫鹽，進一步除去有機物，膠體，細菌等雜質(zhì)，可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求，以EDI代替混床深度脫鹽，利用電而不是酸堿對樹脂再生，避免了二次污染。

超純水的應(yīng)用領(lǐng)域：

超純水是為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其他適當?shù)某R界精細技術(shù)生產(chǎn)出來的水，不宜飲用。還可以在以下領(lǐng)域中使用：

(1)電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

(2)化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等。

(3)單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝。

(4)高壓變電器的清洗等。

在電子行業(yè)中，超純水的應(yīng)用十分廣泛。希望小編在以上的介紹中，讓您能更加了解超純水。

萊特萊德超純水設(shè)備采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經(jīng)濟合理等特點。萊特萊德超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。