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芯片相當(dāng)于電子工業(yè)的“大腦"。雖然它只有指甲那么大,但數(shù)十億納米級(jí)晶體管應(yīng)該放在芯片板上。在芯片生產(chǎn)中,80%以上的工藝需要化學(xué)處理,而每一種化學(xué)處理都離不開(kāi)水。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求就越高。因此,芯片行業(yè)對(duì)生產(chǎn)用水的水質(zhì)有非常嚴(yán)格的要求,一旦水質(zhì)不合格或水中含有雜質(zhì),就會(huì)降低器件的性能和產(chǎn)量。因此,芯片生產(chǎn)中需要使用超純水。
萊特萊德采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝:反滲透系統(tǒng)采用反滲透膜元件,利用反滲透原理去除水中溶解的鹽、有機(jī)物、膠體和大分子。降低水質(zhì)中的離子含量。EDI是結(jié)合離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)的超純水制造技術(shù),無(wú)需酸堿再生,是一種新的脫鹽方法。
EDI系統(tǒng)處理超純水無(wú)需再生回收的化學(xué)品,運(yùn)行成本低,EDI系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,連續(xù)運(yùn)行,出水水質(zhì)好且穩(wěn)定,出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。拋光混床用于超純水處理系統(tǒng)的末端凈化器。設(shè)計(jì)、制造和生產(chǎn)的半導(dǎo)體級(jí)混床離子交換樹(shù)脂可將水中離子含量降至PPB級(jí)別,出水電阻率可達(dá)18.2mΩ·cm。保障芯片生產(chǎn)用水的純度綽綽有余。


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