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半導(dǎo)體行業(yè)在生產(chǎn)的時候需要大量的清洗水，隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對清洗水的電導(dǎo)性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴(yán)格。由于半導(dǎo)體用超純水對多項指標(biāo)的高要求，所以在半導(dǎo)體行業(yè)，超純水不同于其他行業(yè)對水的要求，半導(dǎo)體行業(yè)對超純水有極為嚴(yán)格的水質(zhì)要求。目前我國常用的超純水標(biāo)準(zhǔn)為國標(biāo)《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)及美標(biāo)《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)，美標(biāo)對指標(biāo)更為嚴(yán)格。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，硼是P型雜質(zhì)，過量會使n型硅反型，對電子、空穴濃度有影響。因此在超純水行業(yè)中，要充分考慮硼的脫除。《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)標(biāo)準(zhǔn)中E1.3中要求硼離子≤0.05μg/L。如果硼離子含量能夠達(dá)到更低的指標(biāo)，勢必會提升半導(dǎo)體的性能。
RO系統(tǒng)+EDI超純水系統(tǒng)+Huncotte系統(tǒng)，RO系統(tǒng)利用反向滲透原理，主要除去水中溶解鹽類、有機(jī)物、膠體、大分子物質(zhì)等，降低水質(zhì)的離子含量。EDI超純水系統(tǒng)是一種將離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)，無需酸堿再生，是一種新型的脫鹽方式。無需再生化學(xué)品的再生，運(yùn)行成本低，EDI系統(tǒng)的自動化程度很高，連續(xù)工作，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率≥15MΩ·CM。Huncotte系統(tǒng)選用核子級樹脂，通過靶向離子交換樹脂，能夠有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量，硼離子含量通過IPC-MS檢測，硼離子出水≤0.005μg/L遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于ASTM-D5127-13標(biāo)準(zhǔn)中E1.3中要求硼離子≤0.05μg/L。
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