芯片制造對流體潔凈度有著極高要求，微小顆粒與雜質都會影響晶圓成品良率。在濕法清洗、CMP 研磨、光刻膠供給這些關鍵環(huán)節(jié)，流體過濾是守住產品品質的重要一環(huán)。找到匹配產線工況的過濾方案，是很多半導體制造企業(yè)持續(xù)攻關的課題。
多年來大立持續(xù)深耕半導體流體凈化領域，依托成熟的產品、完善的驗證能力與大量現(xiàn)場工藝經(jīng)驗，為客戶提供整套過濾解決方案，助力產線穩(wěn)定運行。
為此，大立過濾誠邀行業(yè)同仁于2026 將于 10 月 14-16 日蒞臨深圳會展中心(福田)1M04A 展位交流指導。
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