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山東安尼麥特儀器有限公司
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更新時間：2025-01-09 07:44:32瀏覽次數(shù)：282次
聯(lián)系我時，請告知來自 制藥網(wǎng)狹縫式涂布試驗機
狹縫式涂布試驗機由精心研制高精度精密型涂布試驗機，主要應用于，在玻璃，硅片柔性基板上涂布鈣鈦礦，光電，催化溶液等材料。
由于常規(guī)實驗室涂布試驗機，受到刮刀調節(jié)，底板平整度等的影響很難達到涂布納米級膜，狹縫式涂布試驗機，底板采用檢驗級大理石平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數(shù)控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。在國內光學膜涂布實驗室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應用。
1.產(chǎn)品型號：AT-XTB-40C
2.涂布方式：狹縫式涂布頭
3.涂布頭數(shù)量：2個 （一個低粘3-300cps，一個高粘300-7000cps)
4.涂布寬度范圍：246mm(255mm刮刀寬度）
5.狹縫涂布頭上下移動速度：1-100mm/min
6.涂布頭上下移動距離：150mm
7.涂布頭上下移動控制電機：伺服電機
8.涂布頭與底板距離調節(jié)精度：0.002mm
9.刮刀距離控制方式：光電測距傳感器
10.涂布濕膜厚度范圍：5-100um
11.干膜厚度范圍： 2-20um (根據(jù)固含量不同干膜厚度范圍有偏差）
12.涂布固含量范圍：1-70%
13.粘度范圍：3-300CPS (柱塞泵） 300-7000CPS(齒輪泵）
14.進樣速度范圍：1.8-18ml/min
15.涂布速度（橫向移動）：1-30mm/s 任意設定
16.涂膜均勻性：3-5%
17.涂布平臺材質：微孔陶瓷板
18.涂布平臺尺寸：160X150-400X260mm(兩個獨立真空區(qū)） 420X420mm外形尺寸
19.氣體凈化：上下FFU凈化單元，空氣灰塵凈化，操作區(qū)域封閉式
20.機體材質：主框架鋁合金，真空板模具鋼，機殼304不銹鋼
21.控制方式：觸摸屏
22.電器件：歐姆龍
23.電機：匯川伺服
24.傳動件：中國臺灣TBI
25.氣源壓力：0.6MPa
26.供液罐：有 自然/真空/正壓 三種方式
27.設備總功率：1000W
28.設備尺寸：900mmX480mmX450mm
29.電源電壓：220V 50 Hz
1.采用滾珠絲杠傳動，運行平穩(wěn)性更好
2.速度數(shù)字化可調，可以根據(jù)需要選擇合適的速度.
3.高精度國產(chǎn)涂布頭，加料方便，涂布精度高，均勻性好
4.觸摸屏控制，自動化程度高，涂布距離可設定，有效保證了涂布試樣的尺寸。
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