IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨

磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。磺胺二甲嘧啶混懸液  磺胺二甲嘧啶混懸液是治療肺炎球菌肺炎,流行性腦脊髓膜炎,腦膜炎,神經內科,呼吸內科等疾病的處方藥混懸液的要求 混懸劑中藥物微粒與分散介質之間存在著固液界面，微粒的分散度較大，使混懸微粒具有較高的表面自由能，故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑，存在更大的穩(wěn)定性問題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問題，以及提高穩(wěn)定性的措施。 IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨混懸微粒的沉降　　混懸劑中的微粒由于受重力作用，靜置后會自然沉降，其沉降速度服從Stokes定律：　　按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質密度差成正比，與分散介質的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大，混懸劑的動力學穩(wěn)定性就愈小。　　為了使微粒沉降速度減小，增加混懸劑的穩(wěn)定性，可采用以下措施：①盡可能減小微粒半徑，采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是有效的一種方法。②加入高分子助懸劑，既增加了分散介質的粘度，又減少微粒與分散介質之間的密度差，同時助懸劑被吸附于微粒的表面，形成保護膜，增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等，減少微粒與分散介質之間的密度差，同時也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低，有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒終總是要沉降的，只是大的微粒沉降稍快，細小微粒沉降速度較慢，更細小的微粒由于布朗運動，可長時間混懸在介質中。   ，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點 1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）2 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）3  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）4 循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）線速度的計算剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)                  g 定-轉子 間距 (m)由上可知，剪切速率取決于以下因素：轉子的線速率在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

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