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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

主營產(chǎn)品: 乳化機(jī),高剪切乳化機(jī),實(shí)驗(yàn)室乳化機(jī),膠體磨,均質(zhì)機(jī),高剪切分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)機(jī),實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室膠體磨,乳化泵

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CMSD氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機(jī) 超微粉碎機(jī)

氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機(jī) 超微粉碎機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) CMSD
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市

聯(lián)系方式:陳工查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2024-05-07 09:38:54瀏覽次數(shù):1391

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是制藥網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品大小 中型
產(chǎn)品新舊 全新 結(jié)構(gòu)類型 立式
IKN研磨粉碎機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁漿料研磨粉碎機(jī),阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁研磨粉碎機(jī),ATH阻燃劑研磨粉碎機(jī),14400轉(zhuǎn)超高速研磨粉碎機(jī)
【詳細(xì)說明】

IKN研磨粉碎機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁漿料研磨粉碎機(jī),阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁研磨粉碎機(jī),ATH阻燃劑研磨粉碎機(jī),14400轉(zhuǎn)超高速研磨粉碎機(jī)

 
氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多*的優(yōu)點(diǎn),且來源豐富,價(jià)格低廉,應(yīng)用范圍廣,品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對(duì)聚合物起增強(qiáng)作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點(diǎn),因此研究其粒度超細(xì)化、表面改性處理技術(shù)、協(xié)同復(fù)合技術(shù)、納米技術(shù)正成為世界各國研究者的re點(diǎn)問題。

氫氧化鋁的超微細(xì)化增加了氫氧化鋁的表面積,使粒子表面蒸氣壓降低,明顯增強(qiáng)阻燃效果,同時(shí)提高材料制品的力學(xué)性能和耐熱性能。

然而,要獲得超細(xì)的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備,傳統(tǒng)的分散設(shè)備,一方面無法將氫氧化鋁漿料進(jìn)一步細(xì)化,另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家,可知,采用依肯CMSD2000系列研磨粉碎機(jī)對(duì)氫氧化鋁漿料進(jìn)行進(jìn)一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。
 

IKN研磨粉碎機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散機(jī),因?yàn)闅溲趸X分散到水中或者溶劑當(dāng)中,會(huì)形成二級(jí)團(tuán)聚體,軟團(tuán)聚。需要先將團(tuán)聚體打開再進(jìn)行分散。IKN研磨粉碎機(jī)二級(jí)工作組,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切力強(qiáng),分散更*。氫氧化鋁阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁漿料研磨粉碎機(jī),阻燃劑研磨粉碎機(jī),氫氧化鋁研磨粉碎機(jī),ATH阻燃劑研磨粉碎機(jī),14400轉(zhuǎn)超高速研磨粉碎機(jī)

粉碎操作的種類(按細(xì)度分)

粗粉碎:原料粒度在40~1500mm范圍內(nèi),成品粒度若5~50mm

中粉碎:原料粒度在10~100mm 范圍內(nèi) ,成品粒度若 5~10mm

微粉碎:原料粒度在5~10 mm 范圍內(nèi) , 成品粒度若100μm以下

超微粉碎:原料粒度0.5~5mm范圍內(nèi),成品粒度10~25μm以下。

粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。

 

產(chǎn)品效果:
guo內(nèi)粉碎機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機(jī),可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級(jí)分散乳化粉碎

 

CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)研磨粉碎機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過研磨粉碎機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


CMSD2000系列研磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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影響研磨效果的因素:

1 磨頭的形式(臥式和立式)

2 磨頭頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見磨頭結(jié)構(gòu))

4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,研磨速率取決于以下因素:

  • 磨頭的線速率
  • 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 (相對(duì)而言)

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 

IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

 

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

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高剪切工作過程:

 

1.在高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子產(chǎn)生的離心力作用下,物料從工作頭的上下進(jìn)料區(qū)域同時(shí)從軸向吸入工作腔。

 

2.強(qiáng)勁的離心力將物料從徑向甩入定、轉(zhuǎn)子之間狹窄精密的間隙中。同時(shí)受到離心擠壓、撞擊等作用力,使物料初步分散乳化。

 

3.在高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子外端產(chǎn)生至少15m/s以上的線速度,zui高可至40m/s,并形成強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、液層摩擦、撞擊撕裂,使物料充分的分散、乳化、均質(zhì)、破碎、同時(shí)通過定子槽射出。研磨粉碎機(jī)就是通過與發(fā)動(dòng)機(jī)連接的均質(zhì)頭的高速旋轉(zhuǎn),對(duì)物料進(jìn)行剪切,分散,撞擊。這樣物料就會(huì)變得更加細(xì)膩,促使油水相融。食品行業(yè)中的醬,果汁等。制藥行業(yè)中的軟膏。石油化工,油漆涂料油墨等都會(huì)用到研磨粉碎機(jī)。在實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)過程中所要進(jìn)行的混合、攪拌、分散、均質(zhì)、乳化和研磨的應(yīng)用。

 

4.物料不斷高速地從徑向射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)湍流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),zui終完成分散、乳化、均質(zhì)過程。

 

用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨物質(zhì)具有諸多好處:
· 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
· 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
· 相對(duì)干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

IKN濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10微米及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。 

 

工藝應(yīng)用:

☆食品纖維類物料的濕法超細(xì)破碎與均質(zhì)  ☆可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

☆動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工  ☆不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散

☆不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散   ☆納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散

 

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