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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測(cè)試裝置>>半導(dǎo)體制冷機(jī)/冷水機(jī)>>FLT-002半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

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參考價(jià) ¥158340
訂貨量 1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) FLT-002
  • 品牌 冠亞制冷
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 無錫市

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更新時(shí)間:2024-08-12 17:15:29瀏覽次數(shù):723

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式
結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式 溫度 低溫冷水機(jī)
【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

詳細(xì)介紹

 

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。


半導(dǎo)體行業(yè)主營(yíng)控溫產(chǎn)品:

 

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


 

 

型號(hào) FLT-002 FLT-003 FLT-004 FLT-006 FLT-008 FLT-010 FLT-015
FLT-002W FLT-003W FLT-004W FLT-006W FLT-008W FLT-010W FLT-015W
溫度范圍 5℃~40℃
控溫精度 ±0.1℃
流量控制   10~25L/min  5bar max 15~45L/min  6bar max 25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃ 6kw 8kw 10kw 15 kw 20kw 25kw 40kw
內(nèi)循環(huán)液容積 4L 5L 6L 8L 10L 12L 20L
膨脹罐容積 10L 10L 15L 15L 20L 25L 35L
制冷劑 R410A
載冷劑 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG3/4 ZG3/4 ZG1 ZG1
冷卻水口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG1 ZG1 ZG1 ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃ 1.5m³/h 2m³/h 2.5m³/h 4m³/h 4.5m³/h 5.6m³/h 9m³/h
電源380V 3.5kW 4kW 5.5kW 7kW 9.5kW 12kW 16kW
溫度擴(kuò)展 通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃

 

 

 

 

半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

  在芯片制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller作為一種關(guān)鍵設(shè)備,發(fā)揮著一定作用。本文將對(duì)芯片制造工藝中的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller進(jìn)行詳細(xì)介紹。

  一、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller的作用

  淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller在芯片制造工藝中主要起到冷卻作用。在芯片制造過程中,各種設(shè)備產(chǎn)生的熱量較高,如光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等,如果熱量控制不當(dāng),將會(huì)影響芯片的制造質(zhì)量和效率。淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller通過循環(huán)冷卻水將設(shè)備產(chǎn)生的熱量帶走,確保設(shè)備在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下運(yùn)行,從而保證芯片制造的穩(wěn)定性和精度。

  二、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller選購的流程

  1、設(shè)備選型

  根據(jù)芯片制造工藝的具體需求,選擇適合的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設(shè)備。需要考慮的因素包括設(shè)備的冷卻能力、穩(wěn)定性、可靠性、易維護(hù)性等。

  2、設(shè)備安裝

  淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設(shè)備需要安裝在合適的位置,以便與芯片制造工藝中的其他設(shè)備進(jìn)行連接和配合。安裝過程中需要注意設(shè)備的安裝精度和穩(wěn)定性,確保設(shè)備能夠正常運(yùn)行。

  3、設(shè)備調(diào)試

  安裝完成后,需要對(duì)淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設(shè)備進(jìn)行調(diào)試,確保其正常運(yùn)行并達(dá)到預(yù)期的冷卻效果。調(diào)試過程中需要對(duì)設(shè)備的各項(xiàng)參數(shù)進(jìn)行監(jiān)測(cè)和調(diào)整,以確保其滿足芯片制造工藝的要求。


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