制冷加熱循環(huán)裝置的應用：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制；微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試；組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。反應釜加熱冷卻裝置控溫說明

 

型號

SUNDI-125 SUNDI-125W

SUNDI-135 SUNDI-135W

SUNDI-155 SUNDI-155W

SUNDI-175 SUNDI-175W

SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃～+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W 溫度 20度

600L/H 1.5bar~4bar G3/8

800L/H 1.5bar~4bar G1/2

1000L/H 1.5bar~4bar G3/4

1200L/H 1.5bar~4bar G3/4

1600L/H 1.5bar~4bar G3/4

2000L/H 1.5bar~4bar G3/4

外型尺寸(水）cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水）cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

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反應釜加熱冷卻裝置控溫說明

反應釜加熱冷卻裝置控溫說明

　　反應釜加熱冷卻裝置可以加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫，溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質，導熱介質消耗少。如果反應釜加熱冷卻裝置發(fā)生故障的話，要查找出正確的原因，然后用相應的方法來解決處理。

　　反應釜加熱冷卻裝置是對反應釜以及各種反應器進行控溫使用的設備，利用壓縮機制冷，導熱油加熱使冷槽內介質獲取低溫，通過加熱器加熱使容腔內介質獲取高溫，通過冷熱過程使槽內介質溫度達到用戶所需。

　　反應釜加熱冷卻裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內物料溫度，可以選擇程序控制模式，導熱介質和物料的溫差也可設定，冠亞整個反應釜加熱冷卻裝置系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時不會產生油霧，低溫時不會吸收水分，系統(tǒng)中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導熱介質熱脹冷縮。

　　反應釜加熱冷卻裝置采用配件，高性價比配置，提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

反應釜加熱冷卻裝置的典型應用主要有：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。