實驗室氧氣凈化設備微電子氧氣純化裝置以工業(yè)普氧為原料氣，經(jīng)催化冷卻，二級吸附，精密過濾的方法除去氧中微量雜質氫，甲烷，一氧化碳，二氧化碳，水汽和塵埃獲得高純度的氧氣。

本產(chǎn)品結構簡單，系統(tǒng)氣密性良好，所用催化劑（可視原料氣的雜質含量來調(diào)整工作溫度）可*使用無需再生，二級雙塔并聯(lián)結構的干燥器延長了干燥器再生時間，再生設定周期168小時，節(jié)能高效，zui大限度的保證了純氣的品質，高效吸附劑可在產(chǎn)品內(nèi)再生后重復使用。適用于需要大量高純氧氣半導體、光纖、顯像管等主要生產(chǎn)部門。

實驗室氧氣凈化設備微電子氧氣純化裝置實驗室氧氣凈化設備技術指標

1. 原料氣：液氧

2. 處理氣量     10Nm3/h

3. 工作壓力     0.4-0.8Mpa

4. 原料氧的純度：＞ 99.5%

5. 純化后：     CH4＜0.3ppm     CO2＜0.2ppm   

    H2O＜0.5ppm     塵埃 顆粒≤3.0粒/升（100級）

6. 裝機功率：   380V     5KW

二、實驗室氧氣凈化設備裝置組成

1. 反應器              1臺

2，冷卻器              1臺

2. 干燥器              4臺

3. 精密過濾器          1臺

4. 材質含閥門，管路為不銹鋼

5. 電氣系統(tǒng)（含溫度調(diào)節(jié)儀）    1臺

6，觸摸屏             西門子

7，PLC                西門子

氧氣多數(shù)是從液態(tài)空氣中制取的，其中含有微量的水、氮、二氧化碳及一些惰性氣體。氧氣的純化有低溫精餾法、催化反應法和吸附法。一般采用氯化鈣、105催化劑、分子篩注液氮冷阱和下班濾球去除其雜質，將低純度的氧凈化為高純度的氧。GB/T14599《高純氧》國家標準要求高純氧的主要技術指標應達到下表的要求

高純氧的主要技術指標

本產(chǎn)品結構簡單，系統(tǒng)氣密性良好，所以催化劑可*使用無需再生，吸附劑可在產(chǎn)品再生后重復使用。　

　   此外氧氣在金屬切割及焊接等方面也有著廣泛的用途。

本系列中壓氧氣純化裝置適用于需要大量高純氣體的半導體，光纖，顯像管等主要生產(chǎn)部門氬氣純化器采用鎳合金微孔濾膜，不銹鋼外殼，去除氣體中的塵埃粒子，進出口為法蘭連接或螺紋連接。具有過濾精度高、氣密性好、流量大、阻力小、強度好、易再生、壽命長等特點。適用與科研、生產(chǎn)部門作為各種非腐蝕性氣體的終端過濾裝置。廣泛應用于精密機械、半導體器件電真空器件、半導體材料光導纖維等生產(chǎn)工藝

1. 冶金工業(yè) 

在煉鋼過程中吹以高純度氧氣，氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反應，這不但降低了鋼的含碳量，還有利于清除磷、硫、硅等雜質。而且氧化過程中產(chǎn)生的熱量足以維持煉鋼過程所需的溫度，因此，吹氧不但縮短了冶煉時間，同時提高了鋼的質量。高爐煉鐵時，提高鼓風中的氧濃度可以降焦比，提高產(chǎn)量。在有色金屬冶煉中，采用富氧也可以縮短冶煉時間提高產(chǎn)量。 

　　2.化學工業(yè) 在生產(chǎn)合成氨時，氧氣主要用于原料氣的氧化，例如，重油的高溫裂化，以及煤粉的氣化等，以強化工藝過程，提高化肥產(chǎn)量。 

　　3.國防工業(yè) 液氧是現(xiàn)代火箭的助燃劑，在超音速飛機中也需要液氧作氧化劑，可燃物質浸漬液氧后具有強烈的爆炸性，可制作液氧

　　4,醫(yī)療保健方面:供給呼吸：用于缺氧、低氧或無 

氧環(huán)境，例如：潛水作業(yè)、登山運動、高空飛行、宇宙航行、醫(yī)療搶救等時。