微電子氮氣凈化機半導體氮氣凈化器真空爐氮氣凈化系統(tǒng)工作原理

本系列裝置以深冷法制氮、PSA變壓吸附制氮，氮膜分離制氮的普通氮氣為原料，經(jīng)過加氫催化除氧，冷凝、吸附二級干燥，過濾，除去氮氣中的雜質(zhì)氧、二氧化碳、水份和塵埃，獲得高純度的氮氣。用戶對純氮中的含氫量有特殊要求時，可以通過工藝手段來控制氮氣中的氫氣含量。若原料氮的氧含量超過0.1%時，則可用加氫除氧和除氫的方式來獲得無氫高純氮，若原料氮的氧含量小于0.1％，則采用化學除氧工藝方法。

微電子氮氣凈化機半導體氮氣凈化器真空爐氮氣凈化系統(tǒng)技術指標

產(chǎn)品氣量：（1-300）Nm3/h
純度：≥99.9995%
氧含量：≤0.1ppm
氫含量：≤1ppm
露點：≤-70oC

氮氣凈化機氮氣凈化器

用途

高純氮氣廣泛應用于電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等部門，有些熱處理工藝需要在氮氣中加入一定比例的氫氣時，我們可提供自動加氫裝置。

變壓吸附制氮工作原理，變壓吸附制氮采用碳分子篩為吸附劑。一定的壓力下，碳分子篩對空氣中的氧的吸附遠大于氮，因此通過可編程序控制氣動閥的啟閉，A、B兩塔可以交替循環(huán)，加壓吸附、減壓脫附，完成氧氮分離，得到所需純度的氮氣。典型用途：灌充短路器中電壓氣體，大規(guī)模集成電路，彩色與黑白顯象管，電視機與錄音機零部件以及制造半導體和電器用保護氣體，激光打孔等電氣元件生產(chǎn)的氮基氣氛。技術指標·：流量：1~1000Nm/h
·純度：含氧量≤0.5ppm
·壓力：0.05~1.0Mpa
·露點：≤-80℃

 冶金行業(yè) 煉鋼轉(zhuǎn)爐密封，高爐爐頂密封，高爐煉鐵煤粉噴吹，連鑄、連軋，鋼材退火、消除應力、時效、淬火加熱、滲碳、氮碳共滲、軟氮化、真空淬火等氮基氣氛熱處理的氮源，焊接及粉末冶金燒結(jié)過程的保護氣，以及清洗、稀釋氣體。技術指標：氮氣流量：0~2000Nm3/h
·O2 ：≤ 1 ppm
·露點： ≤-70℃
·氫氣比例：可調(diào)

變壓吸附制氮采用碳分子篩為吸附劑。一定的壓力下，碳分子篩對空氣中的氧的吸附遠大于氮，因此通過可編程序控制氣動閥的啟閉，A、B兩塔可以交替循環(huán)，加壓吸附、減壓脫附，完成氧氮分離， 得到所需純度的氮氣。

化工行業(yè)：存貯液體上面氣層的惰性化；吹洗容器、管道、反應器和隔離室；合成纖維紡線，拉絲防氯化，設備防腐；涂料油漆生產(chǎn)中充氮，防止油干燥時的聚合作用；對油船提供保護氣體（油面上用氮氣密封和清洗氣）；海洋工程的惰性氣體供應；干法熄焦，催化劑再生，石油分餾，氮肥原料，觸媒保護，洗滌氣，橡膠的包裝與貯存，輪胎生產(chǎn)等；氮氣壓注開采石油等。產(chǎn)氣量：1~1000Nm3/h
·純度： 95%-99.99%
·露點溫度：-45℃
·出口壓力：0.1~1.0Mpa