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全自動氬氣凈化設(shè)備：高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達(dá)到要求，贏得客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進(jìn)入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，這樣穩(wěn)定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有保證的。氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設(shè)計的。廣泛應(yīng)用于在金屬保護(hù)行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等等已知或未知的寬廣領(lǐng)域

全自動氬氣凈化設(shè)備裝置特點(diǎn)：

1. 催化劑采用了環(huán)保的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質(zhì)氣量大的特點(diǎn)，經(jīng)催化吸附干燥過濾后使其zui終純度達(dá)99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其zui終純氣顆粒小于0.1μ，確保氣體滿足高純氣要求，原位再生功能保證了氣體的品質(zhì)如一，達(dá)到了環(huán)保節(jié)能的zui終目的

2. 本裝置所有閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國內(nèi)外專業(yè)制造企業(yè)的名優(yōu)產(chǎn)品，直接保證了設(shè)備工作過程中的高真空無滲透及*運(yùn)行安全可靠性。

3. 精致的控制儀表，電路電器選自跨國公司，如西門子，施耐德等。

4. 設(shè)備所有連接接頭均選自企業(yè)*的VCR接頭,杜絕滲漏，安全快捷。

5. 人性化的外觀設(shè)計,使設(shè)備外形精巧更美觀，操作更方便

全自動氬氣凈化設(shè)備設(shè)備工作原理

設(shè)備工作設(shè)有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復(fù)利用材料。原料液氬經(jīng)汽化器汽化后由設(shè)備工作進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備一組工作組，經(jīng)脫氧劑、分子篩及精密過濾器后送出至工作點(diǎn)使用。一組工作組負(fù)荷飽和后，切換到另一組工作組工作，保證為使用點(diǎn)連續(xù)的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統(tǒng)加氫是為了還原脫氧劑，加氫結(jié)束后設(shè)備自動吹洗并直接放空），為等待下一次切換使用做好準(zhǔn)備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可達(dá)到并高于GB高純氬氣標(biāo)準(zhǔn)。

主要技術(shù)條件

1、 處理氣量 ≥2-320Nm3/h

2、工作壓力 ＜0.8Mpa

3、原料氬氣純度 ≥99.99%

4、純化后 O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm