EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護：EDI高純水設(shè)備簡介
EDI即Electrodeionization的縮寫，它是一種將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合在一起的脫鹽新工藝。
1986年商用EDI出現(xiàn)于制藥行業(yè)
★二十世紀(jì)九十年代大型商用EDI開始在化學(xué)和半導(dǎo)體行業(yè)被使用
★新一代EDI設(shè)備誕生于1997年
★進入2000年以來，在北美及歐洲EDI已占據(jù)了超純水設(shè)備相當(dāng)部分的市場
★自2005年,EDI在國內(nèi)得到越來越廣泛的認(rèn)可和應(yīng)用。
水處理工業(yè)的**
連續(xù)電除鹽裝置和傳統(tǒng)離子交換相比，EDI 所具有的優(yōu)點：
☆無再生污水及污水處理設(shè)施
☆節(jié)省反沖和清洗用水，高產(chǎn)率生產(chǎn)超純水
☆EDI 再生時不需要停機
☆提供穩(wěn)定的水質(zhì)
☆耗能低
☆操作管理方便，勞動強度小
☆安裝簡單，運行、維護費用低廉
☆濃水可做軟化水，提高了水的利用率
EDI 組件結(jié)構(gòu)
Ø淡水室
Ø濃水室
Ø極水室
Ø絕緣板
Ø電源及水路連接
EDI高純水設(shè)備進水條件
以下是保證EDI正常運行的*低條件，為了使系統(tǒng)運行結(jié)果更佳，設(shè)計時應(yīng)適當(dāng)提高標(biāo)準(zhǔn)。
給水：RO純水，電導(dǎo)率為1-40μS/cm（以25度時NaCl溶液計）。一般應(yīng)經(jīng)過單級反滲透+軟化或者雙級反滲透處理。
TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm.
pH ：6.0～9.0（*佳電阻率性能對應(yīng)的pH范圍為 7.0～9.0 ）。
溫度： 5-35°C（41-95°F）。
進水壓力：*大為4bar（60psi）。
出水壓力：濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。
硬度（以CaCO3計）：進水硬度<0.1 ppm，回收率是95%；進水硬度0.1-0.5 ppm，回收率是90%；進水硬度0.5-0.75 ppm，回收率是80-85%；當(dāng)入水硬度為0.75-1ppm時，需要得到廠家認(rèn)可 。
有機物：*大為0.5 ppm TOC，建議值為零。
氧化劑：*大為0.05 ppm(Cl2)，0.02 ppm(O3)。
變價金屬：Fe*大為0.01 ppm，Mn*大為0.01 ppm。
二氧化硅 ：小于0.5 ppm。
二氧化碳的總量：二氧化碳含量將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2 大于10 ppm， EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)水。可以通過調(diào)節(jié)反滲透進水 pH 值或使用脫氣裝置來降低CO2 量。
EDI高純水設(shè)備調(diào)試
Ü準(zhǔn)備工作
•如果采用了脫氣、RO+軟化工藝，必須做好著以下兩部分的調(diào)試工作
Ü準(zhǔn)備工作
脫氣注意事項：
如果采用脫氣膜+吹氣方式時，必須對空氣進行0.22um**過濾
Ü準(zhǔn)備工作
當(dāng)采用RO+軟化+EDI的方式時，必須對樹脂的進行清洗處理，方法如下：
水洗，3%HCl浸泡24小時
水洗，1%NaOH+5%NaCl浸泡24小時
水洗，3%HCl浸泡24小時
正常再生
注意：再生時鹽的鐵錳含量必須低于5ppm
Ü開機準(zhǔn)備
•仔細(xì)閱讀操作手則。
•檢查系統(tǒng)管路，保證連接正確、完畢。
•檢查電路系統(tǒng)，保證連接正確、完畢。
•檢查儀表系統(tǒng)，保證連接正確、完畢
•調(diào)試給水泵及濃水泵。
•逐個調(diào)試整流單元
•校準(zhǔn)、設(shè)置儀表
•調(diào)試自動控制系統(tǒng)及各流量、壓力開關(guān)
•上述工作完成后，用水沖洗系統(tǒng)管路，準(zhǔn)備系統(tǒng)開機。
注意：上述所有過程膜組件都必須處于斷電狀態(tài)
Ü系統(tǒng)啟動
1、開EDI系統(tǒng)控制電源。
2、啟EDI給水泵
3、察EDI入水電導(dǎo)率，超過設(shè)定值時，自動排放，如合格，入水電閥打開，排水電閥關(guān)閉，如不符合以上描述，需檢查電導(dǎo)儀，并重新設(shè)置
4、慢打開濃水補水閥，待水充滿濃水室后，打開濃水排氣閥，當(dāng)有大量水連續(xù)排除時，關(guān)閉排氣閥
5、啟濃水循環(huán)泵
6、純水、濃水、極水管道實行脈沖供水以進一步從EDI系統(tǒng)中排出空氣
7、節(jié)純水流量、濃水流量、濃水排放流量、極水流量達(dá)到設(shè)計范圍
8、EDI電源打開,使EDI盡快供電.
9、節(jié)純水入口壓力比濃水入口壓力高0.3-0.5kg/cm2，純水出口壓力比濃水出口壓力高0.5-0.7 kg/cm2.避免濃差滲透影響產(chǎn)水水質(zhì).
10、節(jié)濃水電導(dǎo)率在300us/cm左右.
11、節(jié)電流至規(guī)定值,且設(shè)置至電流模式.
12、運行記錄表,做詳細(xì)記錄
12.
Ü系統(tǒng)關(guān)機
1、EDI模塊電源“電流調(diào)節(jié)”至“0”,然后關(guān)斷
2、斷EDI給水泵、濃水循環(huán)泵電源
3、閉EDI系統(tǒng)控制電源
EDI高純水設(shè)備停機維護
Ü短期停機
1、須關(guān)斷電源供電
2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵
3、水閥、出水閥必須關(guān)閉
4、組件不脫水干燥
Ü短期停機
1、須關(guān)斷電源供電
2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵
3、水閥、出水閥必須關(guān)閉
4、組件不脫水干燥
膜塊維護
Ü初次使用
組出廠前,螺母已扭好,運行之前如果發(fā)現(xiàn)個別螺母有松動,應(yīng)將所有螺母再次調(diào)整到20 ft-1bs,*大不超過25 ft-1bs.
Ü長期維護
定期檢查螺拴扭矩,必要時作調(diào)整
系統(tǒng)清洗
Ü濃水側(cè)結(jié)垢清洗
方法1 5%檸檬酸溶液
方法2 3%HCL溶液
Ü淡水側(cè)結(jié)垢清洗
方法 1%NaOH+5%NaCl溶液
Ü**清洗
方法 1% 過氧乙酸溶液
EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護：故障分析
Ü產(chǎn)水水質(zhì)差
1. 原因：濃水出入口壓力與純水出入口壓力接近處理方法，節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求2. 現(xiàn)象：電壓較高而電流很低
原因:正負(fù)極接反
處理方法:切斷電源,核對接線
3. 現(xiàn)象:產(chǎn)水水質(zhì)差,而入水電導(dǎo)率顯示較低
原因:檢測入水,CO2是常見影響因素
處理方法：脫氣
4. 原因：電流較低
處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
5.現(xiàn)象：電流不變，電壓較運行初期升高
原因: 膜組件污染
處理方法:清洗
6.原因:儀表故障
處理方法：檢修儀表
極水流量低
1. 原因：入口壓力較低
處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
2. 現(xiàn)象：投運初期，流量過低
原因: 碎屑堵塞
處理方法:反向沖洗
3.原因:膜組件發(fā)生污染
處理方法：清洗
Ü濃水流量低
1、原因：入口壓力較低
處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
2、現(xiàn)象：投運初期，流量過低
原因: 碎屑堵塞
處理方法:反向沖洗
3、原因:膜組件發(fā)生污染
處理方法：清洗
