IKN實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)，實(shí)驗(yàn)室分散機(jī)，小型研磨分散機(jī) 

CMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備，集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體，在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散設(shè)備；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。

詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段，手機(jī)，(同) 

CMD2000/4IKN實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，電機(jī)功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L，設(shè)備體積較小，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。

CMD2000/4IKN實(shí)驗(yàn)室研磨分散設(shè)備是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散，效率高效果好。

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 
 

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。