實驗室研磨機，試驗室研磨機，小型研磨機，德國實驗室研磨設(shè)備，高轉(zhuǎn)速實驗室研磨設(shè)備， 此款實驗室研磨設(shè)備比普通的研磨機的速度達(dá)到4-5倍以上，研磨效果非常好，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。

實驗室研磨機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

CM2000/4是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN公司另外一項*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。

研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。