AT-XTB-1000C狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介
AT-XTB系列狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)，主要應(yīng)用于狹縫擠出式涂布，應(yīng)用范圍廣泛，包括:有機(jī)光伏電池,有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管,鈣鈦礦光伏電池,鋰離子電池的電解質(zhì)和電極,染色敏感性太陽能電池.

詳細(xì)介紹

AT-XTB-1000C狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介

涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)，主要應(yīng)用于狹縫擠出式涂布，應(yīng)用范圍廣泛，包括:有機(jī)光伏電池,有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管,鈣鈦礦光伏電池,鋰離子電池的電解質(zhì)和電極,染色敏感性太陽能電池.

由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)，受到刮刀調(diào)節(jié)，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜。狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)底板采用多種平臺(tái)方式包括檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)，真空吸附平臺(tái)，精密模具鋼平臺(tái)，玻璃平臺(tái)等，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)高配版涂布機(jī)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。濕膜厚度可以達(dá)到1微米，干膜厚度可以達(dá)到納米級(jí)別。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。

AT-XTB-1000C狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)主要技術(shù)參數(shù)

1.狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度：20-100mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝: 20 25 30 50 100mm墊片

4.電熱板溫度:室溫-150°C

5.行程長(zhǎng)度:10-300mm

6.運(yùn)動(dòng)方式：刮刀運(yùn)動(dòng)

7.速度范圍: 0-100mm/s

8.平臺(tái)材質(zhì):磨具不銹鋼

9.供墨方式：注射器

10.供墨流量范圍:0-60ml/min

11.供墨流量精度:0.01ml/min

12.提前供墨時(shí)間范圍：0-9000ms

13.提前關(guān)墨時(shí)間范圍：0-9000ms

14.涂布頭與基片之間活動(dòng)距離:10 mm

15.涂布頭調(diào)節(jié)方式：氣動(dòng)升降+螺旋千分尺微調(diào)

16.平臺(tái)：真空吸附平臺(tái)（選配）

17.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管，不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

18.電源參數(shù)：100 - 240 V 50Hz

19.動(dòng)力系統(tǒng)：進(jìn)口精磨絲杠+進(jìn)口直線導(dǎo)軌+伺服電機(jī)

20.重量：35kg

產(chǎn)品特點(diǎn)

本機(jī)通常采用緊湊的設(shè)計(jì)，占地面積小，適合各種規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室使用。這種設(shè)計(jì)不僅節(jié)省了空間，還使得設(shè)備在移動(dòng)和安裝時(shí)更加便捷。同時(shí)，緊湊的結(jié)構(gòu)也意味著更高的穩(wěn)定性和耐用性，確保設(shè)備在長(zhǎng)時(shí)間使用過程中能夠保持出色的性能。