產(chǎn)品型號：9XF 產(chǎn)品特點：廣泛應(yīng)用于應(yīng)用于教學(xué)科研金相分析、半導(dǎo)體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。應(yīng)用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫(yī)學(xué)研究地質(zhì)研究等。

儀器工作條件：
1.1適用于在電源220V（10%）/50Hz、氣溫攝氏5℃～30℃和相對濕度低于75%的環(huán)境條件下運行。
1.2 建議安放在防震工作臺上，環(huán)境清潔。

主要技術(shù)指標(biāo)：
（1）光學(xué)系統(tǒng)：無限遠(yuǎn)消色差光學(xué)系統(tǒng)校正系統(tǒng)
（2）目鏡：高眼點大視野平場目鏡PL10X/22mm, 視度可調(diào)
（3）鏡筒：鉸鏈?zhǔn)饺浚o限遠(yuǎn)）；30°傾斜，360°旋轉(zhuǎn);
        瞳距調(diào)節(jié)范圍：54mm-75mm;視度調(diào)節(jié)±5°；
        兩檔分光比R:T=100：0或50:50
（4）物鏡：無限遠(yuǎn)長工作距平場明暗場消色差金相物鏡(5X/ 10X/ 20X/ 50X)
     （標(biāo)配）10x目鏡下實現(xiàn) 放大倍數(shù):(50X、100X、200X、500X)
     （選配）如需其他倍率，參見拓展(選購)附件 或咨詢客服
（5）物鏡轉(zhuǎn)換器：內(nèi)定位5孔轉(zhuǎn)換器
（6）載物臺：雙層機(jī)械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調(diào)節(jié)；平臺面積175mmX145mm,移動范圍：76mmX42mm
（7）調(diào)焦機(jī)構(gòu)：透反兩用機(jī)架，低手位粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)。粗調(diào)行程28mm，帶平臺位置上下調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，樣品高度78mm,微調(diào)精度0.002mm。帶有防止下滑的松緊調(diào)節(jié)裝置和隨機(jī)上限位裝置
（8）聚光鏡：搖出式消色差聚光鏡（N.A 0.9)(透射用）
（9）照明系統(tǒng)：柯拉照明系統(tǒng)，帶視場光闌與孔徑光闌，中心可調(diào)；帶斜照明裝置（燈泡12v50w）