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美國IL ILT2400輻照計XSD140B探頭365nm光阻劑光刻膠輻射測量

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更新時間:2025-11-09 08:39:31瀏覽次數(shù):145

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產(chǎn)品簡介

International Light國際光學(xué)ILT2400輻照計專用探頭XSD140B用于PCB印刷線路板及半導(dǎo)體行業(yè)光刻膠工藝紫外線曝光強(qiáng)度測量,響應(yīng)波段326-401nm,中心波長365nm,輻照度量程7e-8至1W/cm2,研究級的質(zhì)量,手持式產(chǎn)品的價格。

詳細(xì)介紹

美國International Light國際光學(xué)公司自1965年成立以來,為客戶提供各種光源及設(shè)計制造精確的光測量儀器,滿足廣泛的需求,解決光測量的固有困難。ILT測光表是易于使??用的高性能儀器,非常適合用作光度計photometers (勒克斯lux meters)、強(qiáng)度計intensity meters (坎德拉candela)、固化測量儀/輻照度計/光量計curing meters (劑量和曝光測量dose and exposure meters)、能量功率計power meters (瓦或流明watts or lumens)和flash meters (Xenon or LED strobe lamps)。ILT公司的經(jīng)典產(chǎn)品包括UV燈、ILT1400輻射計及升級款ILT2400輻照計、ILT1700研究級光測量儀。

 

Photoresist光刻膠是一種光敏化學(xué)物質(zhì),用于在表面或基材上形成涂層,并用于形成工業(yè)加工的圖案。然后可以將該涂層暴露于稱為光刻膠的作用光譜的特定光帶,以影響光刻膠中期望的變化。這種變化導(dǎo)致光致抗蝕劑變得可溶或不溶于稱為顯影劑的另一種化學(xué)品,該顯影劑將在光致抗蝕劑上被洗滌。一旦顯影,已經(jīng)暴露于作用光譜中的光刻膠保留或被沖走,留下可用于進(jìn)一步處理的圖案,例如化學(xué)蝕刻,雕刻或光刻。

光阻劑廣泛用于PCB印刷電路板行業(yè),其中通過其使用蝕刻化學(xué)品來布置電路連接或印刷電路板跡線。另一個重要的光刻膠用戶是半導(dǎo)體工業(yè),它是用于形成單個半導(dǎo)體器件的微小電路的微圖案的光刻生產(chǎn)中的關(guān)鍵步驟。市場上存在多種光刻膠類型以適應(yīng)各種各樣的應(yīng)用,并且作用光譜可以從一個波段變化到另一個波長。

控制作用光譜曝光設(shè)置(光線輻照強(qiáng)度和曝光時間)是至關(guān)重要的,它可以避免在加工和生產(chǎn)過程中光刻膠的浪費性下曝光或曝光過度。為了保持這些設(shè)置,需要具有盡可能接近光阻劑作用光譜的光譜響應(yīng)的測光表輻照計來精確地知道光致抗蝕劑曝光的程度。更復(fù)雜的是,光刻膠暴露的加工設(shè)備通常非常緊湊并且沒有足夠的空間來進(jìn)行這些測量。

 

美國ILT國際光學(xué)致力于提供各種獨特的光刻膠專用儀器來實現(xiàn)這些困難的測量。如用于ILT2400輻照計的XSD140B光探測器探頭可測量326-401nm波段,輻照度范圍7e-8 ~ 1 W/cm²,直徑大小15x42 mm,另有XSD340B 30 W/cm²高強(qiáng)度探頭,可針對特定波長為這些探頭安裝過濾片以進(jìn)行精準(zhǔn)測量。

International Light XSD Detectpr系列光刻探測器

ILT2400+XSD140A:量程4e-8 to 0.7 W/cm2,響應(yīng)波段320-475 nm,校準(zhǔn)于405nm波長

ILT2400+XSD340A:量程8e-7 to 10 W/cm2,響應(yīng)波段320-475 nm,校準(zhǔn)于405nm波長

ILT2400+XSD140B:量程7e-8 to 1 W/cm2,光譜范圍326-401 nm,中心波長365nm

ILT2400+XSD340B:量程3e-6 to 30W/cm2 高強(qiáng)度,測量光譜326-401 nm,校準(zhǔn)于365nm

規(guī)格文檔說明書/download/201805/ILT2400_XSD140B.pdf

 

美國International Light PCB板曝光測量光刻膠輻照計與探頭選型表

輻照計/探頭組合 響應(yīng)波長頻譜 測量范圍 類型及應(yīng)用
ILT5000, SED033/A/W 320-475 nm 2e-9 ~ 2 W/cm² 臺式,Photoresist光刻膠/光阻材料,
PCB板曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, SED033/A/W 320-475 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,Photoresist光刻膠/光阻劑,同上
ILT1000/A/W 320-475 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻劑,
PCB板曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源
ILT1700, SED033/A/W 320-475 nm 7e-9 ~ 4 W/cm² 臺式,Photoresist光刻/光阻劑,同上
ILT2400, XSD140A 320-475 nm 4e-8 ~ 0.7 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻劑,
PC板曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, XSD340A 320-475 nm 8e-7 ~ 10 W/cm² 同上,大功率高強(qiáng)度輻照探頭
ILT5000, SED033/B/W 326-401 nm 3e-10 ~ 0.2 W/cm² 臺式,Photoresist光刻/光阻劑,
PCB線路板曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, SED033/B/W 326-401 nm 2e-8 ~ 0.2 W/cm² 手持式,同上
ILT1700, SED033/B/W 326-401 nm 5e-9 ~ 0.5 W/cm² 臺式,同上
ILT1000/B/W 326-401 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,同上
ILT2400, XSD140B 326-401 nm 7e-8 ~ 1 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻劑,
PCB曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, XSD340B 326-401 nm 2e-6 ~ 30 W/cm² 手持式,Photoresist光刻膠/光阻劑,高強(qiáng)度測量
ILT2400, SSD001 260-400 nm 6e-6 ~ 0.9 W/cm² 手持式,超薄傳感器,
PCB板曝光系統(tǒng),UVA光源,UV-Vis光源

ILT2400中文版簡易操作說明書/download/201805/ILT2400_Quick_Manual.pdf

分析儀軟件介紹文檔/download/201805/ILT_DataLight-Trend-Manual.pdf

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