SEM中EDS分析高空間分辨率和低能端性能。將Extreme電子電路、無窗設計與幾何結構和傳感器的優(yōu)化設計相結合，靈敏度比傳統(tǒng)大面積SDD高15倍。

◆ 設備特點

可對鋰元素進行檢測和成像

加速電壓小于2kV時塊狀樣品中的空間分辨率低于10nm

在低于1kV加速電壓下對材料進行表征

與浸沒式電鏡相配合，可在高達30kV的加速電壓下收集高質(zhì)量的元素信息

Ultim Extreme 硅漂移探測器是高分辨率場發(fā)射掃描電鏡應用的一個突破，可提供遠遠超越傳統(tǒng)微米和納米分析的解決方案。

Ultim Extreme是Ultim Max系列中的一款無窗能譜，晶體面積100mm2，經(jīng)優(yōu)化設計來盡可能提高靈敏度和空間分辨率。它采用跑道型結構設計，優(yōu)化高分辨率場發(fā)射掃描電鏡在低加速電壓和短工作距離下工作時的成像和EDS性能，使用Ultim Extreme，EDS的空間分辨率接近掃描電鏡的分辨率。

Ultim Extreme是高分辨率場發(fā)射掃描電鏡應用中的一個突破性解決方案。該探測器實現(xiàn)了在低的加速電壓（例如1-3kV）和非常短的工作距離下進行EDS數(shù)據(jù)采集和元素分析，從而在高SEM分辨率下分析納米材料和表面的元素信息。

高分辨率場發(fā)射掃描電鏡可以用來研究更小的納米結構、界面和表面。然而，在這些分析條件下，工作距離很小，工作電壓非很低，束流需要盡可能小以充分利用鏡筒內(nèi)探測器的電子信號，但現(xiàn)在沒有EDS可提供此類元素表征。Ultim Extreme的出現(xiàn)改變了這種現(xiàn)狀，它專為此類分析而設計：

◆ 優(yōu)化的幾何設計

在更小的工作距離下工作

在傳統(tǒng)EDS安裝接口上使立體角盡可能提高。立體角通常比Ultim 170大5倍，傳感器與試樣的距離縮短為普通探測器的一半

◆ 無窗設計

與任何其他大面積探測器相比，立體角提高的同時，對低能端X射線的靈敏度提高了10～30倍

新型電子電路提高對極低能量X射線的靈敏度， 增強了高計數(shù)率下低能量X射線的分析能力

將AZtec Live和Tru-Q ®分析引擎結合實現(xiàn)低加速電壓下的數(shù)據(jù)處理和分析

優(yōu)化TruMap用于低電壓譜峰重疊校正

為了實現(xiàn)這種的幾何結構，Ultim Extreme采用非圓形100mm2傳感器和無窗設計，這種設計已成功用于X-Max N 100TLE，以優(yōu)化TEM的靈敏度。此外，該探測器采用新型的體積更小的的電子陷阱設計，可在高達7kV的電壓下進行準確定量分析，并在較高能量下進行元素定性分析

售后服務

免費上門安裝：否

保修期：詳詢工程師

是否可延長保修期：是

保內(nèi)維修承諾：詳詢工程師

報修承諾：詳詢工程師

免費儀器保養(yǎng)：詳詢工程師

免費培訓：詳詢工程師

現(xiàn)場技術咨詢：有