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日立 超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000

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更新時間:2024-04-03 15:50:34瀏覽次數(shù):357

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹 專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導體器件,高分辨成像所設計。

詳細介紹


產(chǎn)品特點:


●   新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。

    0.4 nm / 30 kV (SE)

    1.2 nm / 1 kV (SE)

    0.34 nm / 30 kV (STEM)

●   用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。

●   采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。




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