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小型PECVD系統(tǒng) 詳細摘要： 型號：PE1260S用途：小樣品的等離子化學氣相沉積，石墨烯沉積，半導體鍍膜等規(guī)格：爐管尺寸60*1150 mm特點：觸摸屏集中一鍵控制，實驗證明此結構沉積速度...
產(chǎn)品型號： 所在地：無錫市 更新時間：2024-03-26 參考價： 面議 在線留言 -
帶氣體預熱PECVD系統(tǒng) 詳細摘要： 型號：PE1260B-Y用途：用作提高樣品等離子體化學氣相沉積效果的方向規(guī)格：特點：在常規(guī)PECVD系統(tǒng)基礎上增加了氣體預熱功能，使得沉積效果更好。
產(chǎn)品型號： 所在地：無錫市 更新時間：2024-03-26 參考價： 面議 在線留言 -
等離子體發(fā)生裝置 詳細摘要： 型號：QJ-PE300用途：普通管式爐加裝改造成等離子增強型PECVD設備規(guī)格：500W特點：高低可調(diào)，適配低成本改造所有管式爐
產(chǎn)品型號： 所在地：無錫市 更新時間：2024-03-26 參考價： 面議 在線留言