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詳細摘要： 簡要描述：高溫三溫區(qū)管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二...

詳細摘要： 簡要描述：低溫單溫區(qū)系列管式爐系周期作業(yè)，供企業(yè)、院校、研究機構等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境，應用在半導體、納米技術、碳纖維等新...

詳細摘要： 簡要描述：這款管式爐以優(yōu)質電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間...

詳細摘要： 簡要描述：這款管式爐以優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間...

詳細摘要： 簡要描述：這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣...

詳細摘要： 簡要描述：本款管式爐產(chǎn)品以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，管式爐爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，分為上下兩個半圓，需...

詳細摘要： 簡要描述：立式管式氣氛爐主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、鋰電正負極材料、晶體退火、LED發(fā)光材料等領域，進行氣氛保護下對樣品進行熱處理、燒結、沉積鍍膜、灰分測量...

詳細摘要： 簡要描述：PECVD工藝中由于等離子體中高速運行的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應；借助射頻等使含有薄膜...

詳細摘要： 簡要描述：這款管式爐以優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間...

詳細摘要： 簡要描述：旋轉式管式爐專為燒結無機化合物獲得較好的一致性而設計，適合航空航天、新能源，LED發(fā)光材料等行業(yè)，爐體可傾斜30，爐管可360旋轉。爐子在旋轉同時下可...

詳細摘要： 簡要描述：立式管式氣氛爐主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、鋰電正負極材料、晶體退火、LED發(fā)光材料等領域，進行氣氛保護下對樣品進行熱處理、燒結、沉積鍍膜、灰分測量...

詳細摘要： 簡要描述：雙溫區(qū)管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二硫化...

詳細摘要： 簡要描述：這款管式爐以優(yōu)質硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間...

詳細摘要： 簡要描述：高溫管式電阻爐廠家這款管式爐以優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用1700型氧化鋁多晶體...

詳細摘要： 簡要描述：雙溫區(qū)管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二硫化...

詳細摘要： 簡要描述：單管滑動快速加熱冷卻爐是一款可滑動管式爐，工作溫度可達1200#176;C。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100#176;C/m。...

詳細摘要： 簡要描述：這款管式爐以優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門宇電30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間...

詳細摘要： 簡要描述：高溫雙溫區(qū)管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二...

詳細摘要： 簡要描述：多溫區(qū)管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二硫化...

詳細摘要： 簡要描述：單管滑動快速加熱冷卻爐是一款可滑動管式爐，工作溫度可達1200#176;C。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100#176;C/m。...