反滲透裝置主要是通過(guò)膜兩側(cè)的壓差為動(dòng)力，只允許水通過(guò)而截留除了氫離子和氧離子的其他離子，對(duì)各種離子除去率也不一樣，這個(gè)也是由于其結(jié)構(gòu)和原理所決定的，據(jù)統(tǒng)計(jì)反滲透對(duì)3+離子的除去率大概在95%～99%,對(duì)2+離子的除去率在92%～99%%，對(duì)1+離子除去率在70%～95%左右。對(duì)2-陰離子除去率80%～90%，1-陰離子除去率在75%～95%左右，除硝酸根離子除去率50%～75%。
反滲透純水設(shè)備按要求分：
1、純凈水設(shè)備（10兆歐以下）  2、超純水設(shè)備（10兆歐以上）
污染物去除率：
脫鹽率：≥97%
有機(jī)物去除率：≥95%
細(xì)菌去除率：≥99%
常見(jiàn)的工藝流程有：
1、 原水箱→原水泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→增壓泵→反滲透裝置→殺菌器→凈水箱→用水點(diǎn)
2、 原水→原水泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→混合離子交換器→殺菌器→用水點(diǎn)
3、 原水箱→原水泵→→石英砂過(guò)濾器→活性炭吸附器→精密過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透→紫外線殺菌器→凈水箱→用水點(diǎn)
4、 原水→原水泵→→石英砂過(guò)濾器→活性炭→保安過(guò)濾器→二級(jí)反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱 →純水泵→紫外線殺菌器→精致混床→0.22μm微孔過(guò)濾器→用水對(duì)象
技術(shù)特點(diǎn)：
1、 采用膜技術(shù)，核心部件采用美國(guó)品牌
2、 工藝，技術(shù)成熟，設(shè)計(jì)合理
3、 液位、壓力自動(dòng)控制，自動(dòng)開停機(jī)
4、 采用的無(wú)水保護(hù)系統(tǒng)

應(yīng)用場(chǎng)合

1、電子工業(yè)用水：半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；實(shí)驗(yàn)室和中試車間；光電產(chǎn)品；其他高科技精微產(chǎn)品。
2、精密機(jī)械行業(yè)用水：汽車零部件的生產(chǎn)加工；飛機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的生產(chǎn)加工；打印機(jī)、傳真機(jī)激光頭的生產(chǎn)加工；光驅(qū)、硬盤的讀寫磁頭及盤片的生產(chǎn)加工；其他對(duì)產(chǎn)品有特殊要求的精密機(jī)械產(chǎn)品的生產(chǎn)加工。
3、電廠鍋爐行業(yè)用水：符合國(guó)家或行業(yè)鍋爐給水標(biāo)準(zhǔn)（GB1576-79、DL/T561-95），適合中、高壓鍋爐補(bǔ)水水質(zhì)要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的（超）純水。
4、精細(xì)化工行業(yè)用水：化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程；電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料；石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純；高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水。
5、電鍍涂裝行業(yè)用水：電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來(lái)清洗，此外超濾和反滲透還可以用來(lái)回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過(guò)來(lái)的水再返回作鍍件清洗之用
 

 
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