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詳細(xì)介紹
用于測量鋼基材上的電鍍層（鋅、鉻、鎳、銅、鎘）。
技術(shù)特點：PH3-0,2 || PH3-1,8；
測量范圍：0-120μm || 0-100μm；
測量精度：≤±(0.03T+1)μm || ≤±(0.03T+1)μm；
最小基底直徑：Φ1 mm ||Φ75mm；
測量區(qū)域直徑：Φ1 mm ||Φ1mm；
探頭外形尺寸：Φ6 ×50mm ||Φ6×50mm；
注：在一定情況下，可測量非導(dǎo)電涂層下方的電鍍涂層。
技術(shù)特點：PH3-0,2 || PH3-1,8；
測量范圍：0-120μm || 0-100μm；
測量精度：≤±(0.03T+1)μm || ≤±(0.03T+1)μm；
最小基底直徑：Φ1 mm ||Φ75mm；
測量區(qū)域直徑：Φ1 mm ||Φ1mm；
探頭外形尺寸：Φ6 ×50mm ||Φ6×50mm；
注：在一定情況下，可測量非導(dǎo)電涂層下方的電鍍涂層。
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