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PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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更新時間:2025-10-31 08:40:33瀏覽次數(shù):179

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產(chǎn)品簡介

PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

配置與優(yōu)勢:
樣品尺寸可達(dá)直徑12寸
單片/多片設(shè)計
鍍膜重復(fù)性/均勻性:士5%
最多可配置10路氣體,根據(jù)沉積材料確定
蝶閥全自動控壓
樣品臺加熱可達(dá)到400°C,低溫可達(dá)到-20°C
直接和間接等離子( CCP/ICP )
等離子體自清潔設(shè)計

選配:

分子泵抽氣,自動控壓
升級Load-lock
等離子體自清潔升級
集成光學(xué)檢測系統(tǒng)
集成于Cluster系統(tǒng)

應(yīng)用:
非晶硅鍍膜
半導(dǎo)體器件絕緣層
薄膜封裝

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