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脫硝系統(tǒng)中氨逃逸的濃度有無相關標準規(guī)定?
發(fā)布時間:2025-1-12
“氨逃逸"是指在SCR脫硝反應器出口處測得的氨濃度,單位一般為mg/m3或ppm。由于氨具有易揮發(fā)的特性,因此在有氨參與反應的場所中,都存在氨的揮發(fā)以及未參與反應的氨的存在。為了減少運行成本并降低氨逃逸對鍋爐下游設備的腐蝕,應盡量將SCR反應器出口處的氨逃逸控制在一定范圍內。
根據HJ563-2010火電廠煙氣脫硝工程技術規(guī)范選擇性非催化還原法中規(guī)定,SNCR脫硝系統(tǒng)氨逃逸質量濃度應控制在8mg/m3(10ppm)以下。HJ562-2010火電廠煙氣脫硝工程技術規(guī)范選擇性催化還原法中規(guī)定,SCR脫硝系統(tǒng)氨逃逸質量濃度應控制在2.5mg/m3(3ppm)。規(guī)定如下:

圖1SNCR脫硝系統(tǒng)氨逃逸濃度規(guī)定

圖2SCR脫硝系統(tǒng)氨逃逸濃度規(guī)定
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