產(chǎn)品簡介

布魯克的Dimension XR掃描探針顯微鏡（SPM）系統(tǒng)攘括了原子力顯微鏡數(shù)十年來的研究和技術(shù)創(chuàng)新。通過常規(guī)的真原子相分辨率，以及一系列的技術(shù)，包括峰值力輕敲模式、數(shù)據(jù)立方體模式、SECM和AFM-nDMA，Dimesnion XR系統(tǒng)可提供的性能和功能。Dimension XR 系列將這些技術(shù)整合提供完整的解決方案，以滿足納米力學(xué)、納米電氣和納米電化學(xué)應(yīng)用的需求。在空氣、流體、電氣或化學(xué)反應(yīng)環(huán)境中對材料和納米尺度系統(tǒng)的定量研究從未如此簡單。

技術(shù)優(yōu)勢

1，分辨率成像，輕易分辨DNA小溝結(jié)構(gòu)

2，高寬帶，從而快速掃描，觀察實時變化，同時具備速度和穩(wěn)定性

3，潛力無限，極其靈活的開放式架構(gòu)，全面的環(huán)境控制方案，用于電池、有機太陽能等領(lǐng)域

4，獲得面的納米尺度的定量特性參數(shù)

5，能夠在大氣及液體環(huán)境下準確地觀測樣品表面微區(qū)（納米及亞微米尺度）三維形貌

所有模式、所有環(huán)境的分辨率

無論是在液體環(huán)境中獲得樣品真原子相，還是在空氣中獲得樣品模量和導(dǎo)電性的原子級分辨率分布，Dimension XR系統(tǒng)在所有測量中都能提供的分辨率。它們使用布魯克專有的峰值力輕敲技術(shù)在各種軟硬樣品上的性能表征已成為，包括聚合物中的分子缺陷或晶體中的缺陷。同樣技術(shù)也被用來分辨粗糙玻璃上的精細起伏結(jié)構(gòu)，且具有驚人的穩(wěn)定性，在數(shù)百次掃描后還能保持最初的分辨率。Dimension XR系統(tǒng)將峰值力輕敲模式與穩(wěn)定性、的探針技術(shù)和布魯克數(shù)十年的針尖掃描創(chuàng)新經(jīng)驗相結(jié)合，在各種尺寸、重量或介質(zhì)的樣品上，在任何應(yīng)用中都實現(xiàn)了穩(wěn)定的分辨率成像。

專有的數(shù)據(jù)立方體模式

這些模式利用快速力陣列模式在每個像素點中執(zhí)行力曲線測量，并具有用戶定義的停留時間數(shù)據(jù)采集。使用高速數(shù)據(jù)捕獲功能，在停留期間執(zhí)行多種電學(xué)測量，從而在每個像素上產(chǎn)生電學(xué)和力學(xué)譜。數(shù)據(jù)立方體模式在單次測量中提供完整的表征，這在商用AFM中是的。

Dimension XR的數(shù)據(jù)立方體模式在每個像素上提供多維納米級信息，在單個測量中同時采集電學(xué)和力學(xué)特性。

DCUBE-PFM 測量清楚地顯示 BiFeO3 薄膜上每個鐵電疇在不同電場下的極化翻轉(zhuǎn)。

的峰值力掃描電化學(xué)顯微鏡

（A）布魯克預(yù)裝的峰值力輕敲掃描電化學(xué)顯微鏡探針提供了簡單、安全的操控性，的穩(wěn)定性，在數(shù)小時成像和多次使用-清潔循環(huán)中都能保持分辨率。（B）探針的掃描電鏡圖像;（C）使用COMSOL模擬的在10mM[Ru(NH3)6]3溶液中的針尖電化學(xué)電流分布；（D） 從 50 次連續(xù)掃描中挑選的第 1、25 和 50 次循環(huán)伏安掃描譜，掃描速率為20 mV/s;（E）長達2小時的恒流測試，以Ag/AgCl為參比電極。（F）模擬（虛線）和實驗（實線）獲得的接近曲線。C和E圖像由 加州理工的C. Xiang和 Y. Chen提供。

具有納米級空間分辨率的峰值力輕敲掃描探針顯微鏡重新定義了液體中納米尺度下電化學(xué)過程表征。峰值力輕敲掃描探針電化學(xué)顯微鏡在數(shù)量級上顯著改善了與傳統(tǒng)方法的分辨率。這使得對能源存儲系統(tǒng)、腐蝕科學(xué)和生物傳感器的更全新研究，為單個納米粒子、納米相和納米孔進行新測量打開了大門。只有峰值力輕敲掃描探針電化學(xué)顯微鏡能同時形貌、電化學(xué)、電學(xué)和力學(xué)分布圖，并具有納米尺度的橫向分辨率。

應(yīng)用領(lǐng)域

用AFM拓展您的應(yīng)用

憑借一整套出色的AFM成像模式，布魯克能為您每項研究提供適用的 AFM 技術(shù)。

基于核心成像模式（接觸模式和輕敲模式），布魯克提供的全套 AFM測試模式，允許用戶探測樣品的電學(xué)、磁性等豐富性能。布魯克的全新的峰值力輕敲技術(shù)作為一種新的核心成像模式，已被應(yīng)用到多種測量模式中，能同時提供形貌、電學(xué)和力學(xué)性能數(shù)據(jù)。