掃描電子顯微鏡

Apreo 材料科學(xué)應(yīng)用
功能豐富的高性能 SEM
Apreo 革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒(méi)技術(shù)，可產(chǎn)生的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái)，并且不會(huì)降低磁性樣品性能。
 
Apreo 受益于獨(dú)特的透鏡內(nèi)背散射探測(cè)，這種探測(cè)提供的材料對(duì)比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過(guò)能量過(guò)濾進(jìn)一步提高了對(duì)比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過(guò)濾?？蛇x低真空模式現(xiàn)在的樣品倉(cāng)壓力為 500 Pa，可以對(duì)要求最嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。
 
通過(guò)這些優(yōu)勢(shì)（包括復(fù)合末級(jí)透鏡、高級(jí)探測(cè)和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應(yīng)對(duì)未來(lái)的研究難題。
 
體驗(yàn) Apreo SEM 帶來(lái)的優(yōu)勢(shì)
的復(fù)合末級(jí)透鏡可在任何樣品（即使在傾斜時(shí)或進(jìn)行地形測(cè)量時(shí)）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無(wú)需進(jìn)行電子束減速。
作用極大的背散射探測(cè) - 始終保證良好的材料對(duì)比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對(duì)電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時(shí)也不例外。
無(wú)比靈活的探測(cè)器 - 可將各個(gè)探測(cè)器部分提供的信息相結(jié)合，獲得至關(guān)重要的對(duì)比度或信號(hào)強(qiáng)度。
各種各樣的電荷緩解策略，包括樣品倉(cāng)壓力為 500 Pa 的低真空模式，可實(shí)現(xiàn)任何樣品的成像。
的分析平臺(tái)提供高電子束電流，而且光斑很小。樣品倉(cāng)支持三個(gè) EDS 探測(cè)器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對(duì)分析進(jìn)行了優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
樣品處理和導(dǎo)航極其簡(jiǎn)單，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
通過(guò)高級(jí)用戶指導(dǎo)、預(yù)設(shè)和撤消功能為新用戶提供專家級(jí)結(jié)果。