詳細介紹
- 設(shè)備特點
1.高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成,真空可達10-4Pa;
2.可配合壓強控制儀控制氣體壓力,實現(xiàn)負壓的精準控制;
3.數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計,流量顯示儀等組成,實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制;
4.每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性;
5.采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;
6.管路采用世界Swagelok卡套連接,不漏氣;
7.超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠;
8.PECVD借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,更容易發(fā)生反應(yīng)。
- 設(shè)備參數(shù)
類別 | 加熱爐 | 射頻電源 | 真空系統(tǒng) | 混氣系統(tǒng) | 壓強控制系統(tǒng) | 尾氣處理系統(tǒng) | ||||
溫度 | 加熱區(qū) | 型式 | 管徑 | 長度 | ||||||
CVD | 1200~1700℃ | 220~440mm | 臥式、滑動式 | Φ60~Φ100 | 600~1600 | 無 | 10Pa | MFC單路或多路控制 | 可選 |
(可選) |
CVI | 1200~1700℃ | 220~440mm | 立式、滑動式 | Φ60~Φ100 | 600~1600 | 無 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220~440mm | 臥式、滑動式 | Φ60~Φ100 | 1200~1600 | 300~500W | ||||
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