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詳細介紹
Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀，真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度可達2×10-6mbar，鍍膜細膩均勻。
內置石英膜厚檢測器，可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下的觸摸屏控制，簡單方便。
儀器可選離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨場發(fā)射掃描電鏡（FESEM）需求。
可選碳絲蒸發(fā)鍍碳膜，用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。
還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜，獲得極其細膩的金屬膜與碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。
可選碳絲蒸發(fā)鍍碳膜，用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。
還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜，獲得極其細膩的金屬膜與碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。
主要技術參數：
• 可任選離子濺射模式，碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，碳棒（熱阻）蒸發(fā)模式，電子束蒸發(fā)模式，雙濺射模式，濺射-碳絲模式，濺射-碳棒模式，濺射-電子束模式，雙電子束模式，可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統(tǒng)，可選輝光放電（用于網格表面親水化）
• 設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度
• 內置石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
• 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
• 觸摸屏控制，簡單方便
• 采用隔膜泵+渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度_2×10-6mbar
• 濺射電流：0-150mA可調
• 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：200mm（寬）×150mm（深）×195mm（高）
• 樣品臺內置旋轉，工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm
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