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詳細摘要： 主要在真空或保護氣氛條件下對金屬材料進行感應熔煉，并澆鑄到模具內(nèi)。此設備特點是在微負壓氣氛條件下，采用感應加熱石墨坩堝內(nèi)的金屬，同時可以在熔煉過程中加料進行合金...

詳細摘要： 真空熔鹽電鍍爐是一種專門設計用于在真空環(huán)境下，利用熔融鹽作為介質(zhì)進行電鍍或化學鍍的設備。這種技術結(jié)合了真空技術和熔鹽電解的優(yōu)勢，能夠在嚴格控制的條件下實現(xiàn)高質(zhì)量...

詳細摘要： 下裝載燒結(jié)爐主要應用于無機材料退火、電子陶瓷、氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷、介質(zhì)陶瓷、磁性材料、納米材料等的高溫燒結(jié)生產(chǎn)，以及特種陶瓷靶材產(chǎn)品的預燒和燒結(jié)處理，高純石...

詳細摘要： 設備簡介：

詳細摘要： RTP（Rapid Thermal Processing，快速熱處理）快速蒸發(fā)燒結(jié)爐是一種專門設計用于在極短時間內(nèi)實現(xiàn)材料的高溫處理、燒結(jié)或薄膜沉積的設備。它通...

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詳細摘要： 此設備是針對部分原材料在燒結(jié)過程中產(chǎn)生的有毒有害物質(zhì)、焦油和脂類等污染物，以及這些物質(zhì)在正常煙囪處遇冷凝結(jié)造成的排氣擁堵問題，一種創(chuàng)新的尾氣處理裝置被設計出來。...

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詳細摘要： 1200℃旋轉(zhuǎn)擺振自動進出料CVD（化學氣相沉積）包覆加熱爐是一種高度集成的設備，專門設計用于在嚴格控制的條件下進行高質(zhì)量材料表面涂層。該設備不僅具備高溫處理能...

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詳細摘要： 桌面式單路氣體質(zhì)量流量計是一種高精度、高穩(wěn)定性的氣體流量測量設備，適用于實驗室、工業(yè)生產(chǎn)和科研等領域。該設備能夠?qū)崟r監(jiān)測和控制氣體流量，確保精確的氣體供應和消耗...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：

詳細摘要： CW-5000AI是通過CE認證的專業(yè)水冷設備，水箱容量為6L，水流速率可達16L/min，可以很好的冷卻加熱設備，是一款使用方便又經(jīng)濟的水冷設備。

詳細摘要： 手動與電動一體壓片機是一種集成了手動和電動兩種操作模式的多功能壓片設備。這種設計不僅提供了靈活性，還能夠在不同應用場景下發(fā)揮各自的優(yōu)勢，適用于實驗室研究、小規(guī)模...

詳細摘要： 設備簡介：

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