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真空井式爐

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更新時(shí)間:2025-11-23 08:45:36瀏覽次數(shù):138

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

真空井式爐是一種專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)的高溫加熱設(shè)備,主要用于通過還原萃取法制備各種合金材料。該加熱爐能夠在高溫環(huán)境下(通??蛇_(dá)1200℃)進(jìn)行金屬氧化物的還原反應(yīng)和合金化過程,適用于材料科學(xué)、冶金工程、化學(xué)工程等領(lǐng)域的研究與開發(fā)。

詳細(xì)介紹


設(shè)備特點(diǎn)
精確控制:采用PID溫度控制技術(shù)和高精度傳感器,保證反應(yīng)條件的一致性和重復(fù)性。
多步工藝集成:將還原、萃取等多個(gè)步驟集成在一個(gè)系統(tǒng)內(nèi)完成,簡(jiǎn)化操作流程,提高效率。
高效分離:優(yōu)化萃取工藝,利用不同的物理化學(xué)性質(zhì)實(shí)現(xiàn)有效分離,減少雜質(zhì)含量。
自動(dòng)化程度高:支持編程控制和遠(yuǎn)程監(jiān)控,用戶可以通過計(jì)算機(jī)界面設(shè)置工藝參數(shù),并實(shí)時(shí)監(jiān)控實(shí)驗(yàn)進(jìn)展。
靈活配置:可根據(jù)具體實(shí)驗(yàn)需求定制不同規(guī)格的反應(yīng)器、氣體流量等參數(shù),適應(yīng)多樣化的研究需求。

設(shè)備名稱

真空井式爐

供電電源

單相220V 50HZ

額定功率

6KW(包含分子泵機(jī)組2KW)

加熱元件

HRE合金電阻絲

爐膛控溫精度

±1℃

控溫傳感器(爐膛)

K型熱電偶φ2*420mm

反應(yīng)釜控溫精度

±5℃

測(cè)溫傳感器(反應(yīng)釜)

K型直角熱電偶φ8mm*100+450

Tmax

1200℃

額定溫度

1150℃

推薦升溫速率

≤20℃/min

爐膛溫區(qū)尺寸

φ240*220mm

燒結(jié)坩堝尺寸

外徑φ133mm,高度180mm(1100℃處)

收集坩堝尺寸

外徑φ120,內(nèi)徑φ34.5,高度30(200-300℃處)

分子泵機(jī)組供電電源

380V 50HZ

真空泵型號(hào)

DRV30 KF40接頭 抽速8.3L/s

分子泵型號(hào)

FF-160/620F LF接口 抽速600L/s 轉(zhuǎn)速27000r/min

系統(tǒng)整體極限真空度

≤5.3×10-4Pa

爐體尺寸

長(zhǎng)1150*高1480*深700mm

爐體重量

約200KG

控制系統(tǒng)

1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);
3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無紙記錄;
4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài);5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。

加熱元件


HRE合金電阻絲


工藝示意圖
冷凝收集器

冷凝收集器采用304不銹鋼材質(zhì),內(nèi)置水冷結(jié)構(gòu),將分子泵或氣流帶出的金屬蒸汽進(jìn)行冷凝,降低反應(yīng)后混合物的溫度,防止副產(chǎn)物生成。避免對(duì)分子泵機(jī)組造成損害。


弱腐蝕性氣體預(yù)熱器

(可選配)


通體采用316L材料,對(duì)于各種氣體以及腐蝕性氣體的預(yù)加熱處理,滿足特殊的工藝需求,溫度達(dá)600℃。
設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1.設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開爐膛,避免受到傷害;

2.爐膛連續(xù)使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?,F(xiàn)象,不影響設(shè)備的正常使用;

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件)

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